高纯三氟化氮,化学式为NF3,常温下外观为无色无味气体状,其化学性质稳定,不溶于水,不溶于碱,不可燃烧但能助燃,高温条件下会分解产生氟,具有强氧化性。高纯三氟化氮是电子特气的一种,属于含氟类特种气体,在电子特气产品中市场容量最大,广泛应用在电子信息产业中,也称为电子级三氟化氮。
高纯三氟化氮具有选择性优、刻蚀速率快、无残留、对材料表面无污染等优点,可用作蚀刻剂与清洗剂。在半导体芯片行业中,高纯三氟化氮主要用于刻蚀领域;在显示面板、太阳能电池行业中,高纯三氟化氮主要用于刻蚀与清洗领域;此外,高纯三氟化氮还可以应用在光纤、激光器等行业中。
在海外市场中,高纯三氟化氮主要生产商有日本KDK、日本三井、韩国SK等,其生产原料主要从中国市场进口,不具备成本优势。21世纪以来,我国电子产业发展迅速,高纯三氟化氮行业发展速度加快,随着相关技术瓶颈被突破,我国成为高纯三氟化氮主要生产国之一。与国外企业相比,我国高纯三氟化氮行业发展具有原材料优势,并且我国是全球最大的电子产品生产国,因此全球高纯三氟化氮产能逐步向我国大陆地区转移。
我国高纯三氟化氮生产商主要是中船重工718所旗下派瑞特气、昊华科技子公司黎明院、南大光电旗下飞源气体等。分析南大光电营收数据,2018年,南大光电生产的电子特气中不包括高纯三氟化氮,全年电子特气营收占比为34.2%;2019年,南大光电收购飞源气体,电子特气营收占比迅速攀升,达到51.1%。高纯三氟化氮是飞源气体的主营产品之一,由此可以看出我国高纯三氟化氮市场发展势头强劲。
新思界
行业分析人士表示,我国包括派瑞特气、黎明院、飞源气体在内的高纯三氟化氮生产商还在不断扩大产能,随着这些产能陆续进入投产期,我国高纯三氟化氮产量将继续上升,将会进一步挤压海外生产商发展空间。高纯三氟化氮主要应用在电子产业中,我国相关企业在扩大生产能力的同时,也需注意市场供需格局,避免出现产能过剩情况,造成企业盈利能力下降。