ArF光刻胶是半导体光刻胶的主要产品之一，在半导体领域的应用可靠性较高，且是使用最广泛的光刻光源。当前半导体制造中主流的工艺仍旧是8寸和12寸晶圆片，因此ArF光刻胶仍旧是市场主要的光刻胶品种，市场占比达到43%，其中在8寸晶圆片中应用最高，占比为23%。
ArF光刻胶是集成电路领域的关键原材料，主要用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，被广泛应用在高端芯片制造，如5G芯片、逻辑芯片、云计算芯片、AI芯片等领域。ArF光刻胶是目前分辨率最高的光刻胶，其生产技术门槛较高，截止到2019年国内ArF光刻胶完全依赖进口，因此未来进口替代的空间较大。
ArF光刻胶对应的是IC制程节点最为先进的产品，目前甚至能够应用在7nm节点中，且在EUV技术成熟之前，ArF光刻胶仍将是市场主流产品。随着双/多重曝光技术的普及，光刻胶使用次数增长，因此ArF光刻胶的市场规模也将翻倍。
根据新思界产业研究中心发布的
《2021-2025中国ArF光刻胶行业市场现状综合研究及投资前景预测报告》显示，当前国内市场需求的ArF光刻胶主要依赖进口，主要进口自JSR株式会社、东京应化工业、信越化学、信越化学等。ArF光刻胶进口依赖度高，不利于我国半导体产业发展，因此在政策的鼓励下，部分企业布局在ArF光刻胶的研发领域。当前拥有一定技术实力，且实现了产业化突破的企业有宁波南大光电、上海新阳、北京科华、晶瑞股份、江苏汉拓、广州微纳光刻材料。而实现规模化量产的企业有宁波南大光电、博康旗下汉拓光学、广州微纳光刻材料。
虽然我国已经实现了ArF光刻胶生产，但国产产品质量差，和进口产品相比存在折射率、光敏度、分辨率等参数差距。但总体来看，ArF光刻胶行业发展较好，随着半导体产业的快速发展，ArF光刻胶市场需求持续攀升，未来市场发展空间较大。
新思界
产业分析人士表示，光刻胶应用在芯片生产中，受益于人工智能、互联网等技术的快速发展，芯片产需攀升，ArF光刻胶行业发展前景较好。ArF光刻胶属于光刻胶中高端产品，技术门槛高，国内市场主要被进口品牌占据，国内企业经过几年的研究，实现了技术性突破，已有企业达到规模化生产能力，但尚未有商品化产品上市。
