光刻胶根据应用领域的不同可分为PCB 光刻胶、LCD 光刻胶、半导体光刻胶三种，其中PCB 光刻胶技术门槛较低，而半导体光刻胶行业门槛最高。根据细分应用领域不同，光刻胶又可以分为更多种类，其中PCB 光刻胶有干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等产品；LCD 光刻胶包含彩色光刻胶、黑色光刻胶、TFT-LCD 光刻胶；半导体光刻胶有g 线、i 线、KrF、ArF、EUV等光刻胶。
光刻胶主要应用在液晶显示、半导体、电路板等领域，其中半导体是光刻胶主要应用领域。半导体是光刻胶下游门槛最高的应用领域，随着半导体加工精度不断提升，从微米级到纳米级水平，光刻胶行业也逐渐向高端化方向发展。
根据新思界产业研究中心发布的
《2021-2025年光刻胶行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，受终端半导体以及液晶显示等产业快速发展影响，全球光刻胶市场需求持续攀升，市场规模随之增长，在2019年全球光刻胶市场规模达到90亿美元以上，按照当前趋势，预计到2022年有望达到106亿美元。中国作为全球最大的电子产品生产国家，对于光刻胶需求量高，在2020年我国光刻胶市场规模达到180亿元。
就光刻胶市场结构分析，其中半导体光刻胶市场规模占比最高，约为28%，其次是LCD、PCB ，二者占比均为25%。在生产方面，当前我国光刻胶生产技术较为落后，主要集中生产 PCB用光刻胶，该类产品占比达到95%。当前半导体光刻胶极度依赖进口。
就目前光刻胶应用需求来看，未来半导体光刻胶行业发展前景最好。ArF 光刻胶占据半导体光刻胶市场份额的40%左右，是重要的细分产品之一。除此之外，KrF 光刻胶和g/i 线光刻胶占比分为为23%、25%。目前来看EUV 光刻胶是最先进的光刻胶产品，可用于7nm及一下制程的光刻工艺，但由于生产门槛较高，产量较少，市场份额占比较小，但未来市场发展潜力巨大。
在市场竞争方面，当前日本企业占据全球光刻胶七成的市场份额，其中JSR产品种类丰富，占据全球首位，其次有东京应化、富士电子、信越化学、住友化学、陶氏化学、东进世美肯等企业。国内光刻胶企业主要有晶瑞电材、华懋科技、彤程新材、南大光电、上海新阳，主要集中在g/i光刻胶，部分企业在KrF 和 ArF光刻胶领域有突破，产品处于验证阶段。
新思界
产业分析人士表示，光刻胶在半导体、显示屏等领域应用需求较高，随着近几年设备智能化、人工智能等产业的发展，光刻胶应用需求持续攀升，且逐渐向高端方向发展。在生产方面，我国光刻胶主要集中在低端领域，在中高端的KrF 和 ArF领域有所突破，但尚未实现国产化，而在EUV 光刻胶领域则完全被日企垄断。
