随着现代光刻技术的不断进步，KrF，ArF等光刻胶被广泛应用后，以化学放大技术为基础的紫外光刻胶成为半导体光刻胶的主流，市场需求持续攀升。光致产酸剂（PAG）是化学放大胶主要组成部分，在曝光过程中，PAG能够释放催化量的酸，增加曝光区域和未曝光区域之间的溶解性差异。PAG的产酸效率、产酸强度、热稳定性以及光解后的透明度对光刻胶的性能影响很大。
根据新思界产业研究中心发布的
《2021年全球及中国光致产酸剂（PAG）产业深度研究报告》显示，按照原材料化学结构不同，光刻胶可被分为光聚合型、光分解型、光交联型、化学放大型，其中化学放大型是目前最为先进的类型，主要产品有KrF和ArF。化学放大型光刻胶的效果主要来源于PAG，因此随着光刻胶行业的发展，PAG应用需求持续攀升，行业发展前景较好。
根据化学结构的不同，PAG可分为鎓盐类、二甲酰亚胺N-磺酰基类、安息香磺酰酸类、硝基苯磺酸类、砜类、 肟酯类、三嗪类等。PAG的性能将直接影响到光刻胶产品，因此在选择PAG时，需要考虑产品的耐热性、酸效率、透明性、溶解性等性能。
受益于晶圆产业向中国转移，以及国内设备智能化发展，我国光刻胶市场需求较高。2021年我国半导体光刻胶市场规模约为33亿元，按照当前国内半导体发展趋势，预计到2025年国内半导体光刻胶市场规模达到98亿元。KrF和ArF在光刻胶市场占比较高，二者总占比达到70%以上。KrF和ArF光刻胶市场需求持续攀升，带动PAG行业发展。
就行业发展来看，考虑到环保政策影响，未来PAG逐渐向绿色化方向发展，不含氟的PAG得到迅速发展。无氟PAG的使用可以缓解电子工业中使用PFOS、PFAS带来的环境和健康问题。
新思界
产业分析人士表示，PAG是化学放大胶主要组成部分，是生成化学放大型光刻胶的重要因素。随着我国半导体产业和光刻技术的不断发展，光刻胶产品逐渐向高端化发展，化学放大型产品成为主流，KrF和ArF占据七成左右市场，利好PAG行业发展。PAG产品类型较多，但由于行业技术门槛较高，市场被日本和美国企业占据，代表性企业有东洋化工、光纯药株式会社、FJIFILM，其中东洋化工是最大供应商。目前内尚未实现光致产酸剂规模化生产，未来市场发展潜力巨大。
