光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种有机化合物，主要组成成分为光引发剂、溶剂、单体、光刻胶树脂、助剂等。光刻胶种类较多，根据应用领域不同，光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶三种，其中半导体光刻胶生产壁垒较高，细分产品有i线、g线、KrF、ArF、EUV等，其中EUV光刻胶是最先进的光刻胶产品。光刻胶是光刻工艺的核心材料，近年来，随着我国电子信息产业发展，光刻胶市场需求不断释放。
根据新思界产业研究中心发布的《
2022-2026年光刻胶行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，近年来，全球光刻胶市场保持增长态势，2020年，全球光刻胶市场规模约为95亿美元。光刻胶市场发展空间广阔，预计2022-2026年，全球光刻胶市场将保持以5.6%的年均复合增长率增长。
得益于PCB、LCD、半导体等产业向东转移，我国光刻胶市场增长速度加快，2020年，我国光刻胶市场规模已达到85亿元。我国是全球最大的电子产品生产国家，国内光刻胶需求量大，预计2022-2026年，我国光刻胶市场将保持高于全球平均水平的增速增长。
光刻胶技术壁垒较高，全球市场较为集中，其中日本合成橡胶（JSR）、日本信越化学、东京应化（TOK）、美国杜邦等日美企业占据全球光刻胶市场的主导地位。日本光刻胶技术处于国际领先水平，特别是在高端EUV光刻胶市场，几乎处于垄断市场。目前我国低端光刻胶基本实现了国产替代，但高端光刻胶进口依赖度仍较高，尤其是EUV光刻胶。
光刻胶是电子加工的关键性材料，在中美贸易冲突加剧的背景下，光刻胶产业链安全和自主可控尤为重要。近年来，我国政府发布了多项利好政策支持光刻胶产业发展，同时国内企业也积极研发中高端产品，主动寻求光刻胶及其核心材料国产化。现阶段，我国光刻胶企业有晶瑞电材、彤程新材、华懋科技、南大光电等，在国产替代大契机下，国内光刻胶企业将迎来发展良机。
新思界
行业分析人士表示，光刻胶在半导体、显示、面板等领域应用广泛，我国是电子产品生产大国，光刻胶市场需求空间广阔，但受技术限制，我国高端光刻胶供应能力不足，市场需求仍依赖进口。光刻胶产业链安全和自主可控尤为重要，在政策扶持、科技赋能、企业助力下，光刻胶国产替代将是大势所趋。
