PCB光刻胶是光刻胶的一种，应用在PCB（印制电路板）制造中，产品主要包括干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨三大类。与半导体光刻胶、面板光刻胶相比，PCB光刻胶技术壁垒较低，在其三种细分产品中，干膜光刻胶技术含量相对较高。
干膜光刻胶产品为固态，是将预配的液态光刻胶涂布到载体薄膜上（可采用聚酯PET薄膜），经处理得到的固态光刻胶薄膜，应用时直接将干膜光刻胶贴附到待加工覆铜板上，通过曝光显影将掩膜板上的电路图形复制到干膜光刻胶上，干膜光刻胶对覆铜板进行蚀刻从而制得PCB。干膜光刻胶成本较高，但不会浸没覆铜板上的孔洞，后期加工与清理更为便捷，在特定应用场景中应用比例高。
干膜光刻胶主要由树脂、光引发剂、单体、溶剂等构成，这些组分的性能与配比直接影响干膜光刻胶性能。树脂的功能主要是将各组分粘结成膜，需要具有优良的粘附性、抗腐蚀性、耐高低温性以及易清除等特点；光引发剂吸收光能量产生光化学反应从而完成光刻，直接决定了干膜光刻胶的感光速度、曝光时间、固化性能等；单体的功能是调节光引发剂的光化学反应；溶剂的作用是将各组分融合在一起，以及作为光化学反应介质。
根据新思界产业研究中心发布的
《2022-2026年干膜光刻胶行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，2021年，全球干膜光刻胶市场规模约为59亿元，预计到2026将达到70亿元以上，年均复合增长率为3.5%。由于技术难度较低，在我国光刻胶市场中，PCB光刻胶规模占比达到90%以上；在我国PCB光刻胶市场中，湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨是主要产品类型，干膜光刻胶技术壁垒相对较高，生产企业数量较少，年产量较小。
在全球范围内，干膜光刻胶生产企业主要有日本旭化成、日本日立、中国台湾长兴化学、美国杜邦、韩国科隆等，其中前三家企业合计市场占有率达到82%。我国PCB光刻胶企业以湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨生产为主，有少数企业可以生产干膜光刻胶，但主要是中低端产品，且产能少，因此市场份额占比小。
新思界
行业分析人士表示，我国干膜光刻胶需求对外依赖度大，主要进口自日本、美国、中国台湾地区，进口依赖度达到90%以上，特别是高端产品完全依靠进口。我国少数具有干膜光刻胶生产能力的企业主要是北京科华、晶瑞电材等，除此之外，容大感光、能动科技等企业也在加快干膜光刻胶布局步伐，未来国内产能有望不断扩大。
