光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种光敏材料，是指通过紫外光、电子束、X射线等的照射或辐射下，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，在电子与印刷工业中应用较为广泛。光刻胶主要由光引发剂、树脂、溶剂、单体等材料构成。
光刻胶树脂是光刻胶的核心原材料，其成本占比原材料总成本约为55%。光刻胶树脂对光刻胶的粘附性、线宽长度、化学抗蚀性起着决定性作用。根据新思界产业研究中心发布的
《2023-2028年光刻胶树脂行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，光刻胶树脂主要类型包括用于G线光刻胶领域的环化橡胶树脂、用于I线光刻胶的酚醛树脂、用于KrF光刻胶的聚对羟基苯乙烯树脂（PHS）、用于ArF光刻胶的聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）树脂、用于EUV光刻胶的PHS/HS-甲基丙烯酸酯共聚物树脂等。
光刻胶是光刻工艺的核心材料，近年来，在全球PCB、LCD、半导体等产业向中国转移趋势不断加深背景下，国内光刻胶市场快速发展，2021年我国光刻胶市场规模已达95.4亿元，同比增长12.1%。在光刻胶市场快速发展驱动下，作为其核心原材料的光刻胶树脂市场需求得以快速增长，行业展现出良好发展前景。
目前我国光刻胶树脂仍以进口为主，国内市场由日本、美国等企业占据主要份额，主要企业包括信越化学、杜邦、东洋合成、日本曹达、住友电木、三菱化学、陶氏化学等，国内市场国产化程度较低。
光刻胶树脂属于技术密集型行业，我国光刻胶行业起步时间较晚，因此，其原材料光刻胶树脂的研究、开发时间也相对较晚，长期以来，我国光刻胶树脂市场一直由国外企业占据垄断地位。而近年来，伴随着电子产业快速发展以及全球电子产业朝中国转移趋势不断加深，我国光刻胶树脂关键技术得以不断突破。目前国内具备光刻胶树脂量产能力的企业主要有圣泉集团、强力新材、长兴材料等。
新思界
产业分析人士表示，虽然目前我国光刻胶树脂市场已实现国产化，但本土企业在技术、规模、经验、设备等领域与国外龙头企业相比仍有较大差距，未来本土企业还需不断提升技术水平与加大产品研发实力，行业成长空间巨大。未来在国内电子产业持续快速发展背景下，我国光刻胶树脂市场需求有望持续增长，行业发展空间广阔。
