光刻胶是一种光敏材料，为对光敏感的混合液体，又称光致抗蚀剂，是通过紫外光、电子束、X射线等照射或辐射，发生溶解度变化产生的耐蚀剂刻薄膜材料，主要由光增感剂/光致产酸剂等光引发剂、单体、光刻胶树脂、溶剂和其他助剂组成。
光刻胶通常分为PCB光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶三大类。光刻胶根据曝光光源和辐射源的不同，也可分为电子束胶、X-射线胶、离子束胶、紫外正/负性光刻胶、深紫外光刻胶等品类。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，被广泛应用于电子、印刷、新型显示、显示面板、集成电路、电路板印制、半导体分立器件等领域。
据新思界产业研究中心发布的
《2023-2028年光刻胶行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，近年来，我国光刻胶行业发展态势良好。一方面，随着我国晶圆厂产能扩张计划逐渐落地，我国光刻胶产量大幅提升。另一方面，光刻胶树脂是光刻胶的主要组成成分，是影响光刻胶性能和质量的核心材料，随着科研技术水平不断提高以及合成树脂生产工艺不断突破，我国光刻胶树脂供给能力大幅提升、生产成本不断下降，推动了国内光刻胶的发展。
从下游应用市场来看，光刻胶应用范围十分广泛。在我国政府的大力扶持下，我国航空航天、国防军工、消费电子、电子芯片等产业发展迅速，光刻胶市场需求量不断上升。在此背景下，我国光刻胶市场规模持续扩大。2018-2022年，我国光刻胶市场规模上升35.1亿元，年复合增长率为11.8%。其中，2022年我国光刻胶市场规模为97.4亿元，同比上升5.8%。
从我国光刻胶市场来看，由于光刻胶行业技术门槛高，市场集中度颇高。目前，我国光刻胶市场份额主要被东京应化、日本合成橡胶、日本住友化学、日本信越化学、美国陶氏化学等发达国家大型企业占领，以上企业占我国光刻胶市场份额的80.3%以上。晶瑞电材、华懋科技、容大感光、南大光电、彤程新材、上海新阳等是我国本土光刻胶主要生产商。
新思界
产业分析人士表示，与发达国家相比，我国光刻胶市场起步较晚，自给率低，行业整体技术水平与产品质量和国际先进水平相比差距较大。此外，我国光刻胶产品主要集中在中低端市场，高端产品进口依赖度高。未来，随着我国政府扶持力度不断增大、企业研发技术不断精进，我国光刻胶市场国产化率有望提升。
