正性光刻胶又称正胶，指在光刻工艺中，涂层经曝光、显影后，未曝光部分可保留下来形成图像的光刻胶。正性光刻胶具有化学抗蚀性佳、粘附性良好、分辨率高等特点，在生物医学、光电子、微电子以及半导体等领域应用广泛。
正性光刻胶主要成分包括分散剂、活性稀释剂、防腐剂以及树脂等。酚醛树脂在正性光刻胶生产过程中应用较多，其具有耐酸、耐高温、浸润性好、强度高等特点，在光刻胶、合成塑料、胶粘剂、阻燃材料等领域拥有广阔应用前景。但目前，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，我国电子级酚醛树脂产量较低，需求高度依赖进口，这为正性光刻胶行业发展带来一定挑战。
邻-叠氮醌类光刻胶为正性光刻胶代表产品，指含有邻-叠氮醌化合物（DNQ）的光刻胶。邻-叠氮醌类化合物经过紫外线光照后会产生光分解反应，再经过水解、改性等流程制得正性光刻胶。我国邻-叠氮醌类光刻胶行业起步于上世纪六十年代，经过多年发展，本土企业技术水平不断提升，这为正性光刻胶行业发展提供有利条件。
根据新思界产业研究中心发布的《
2023-2028年中国正性光刻胶行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，正性光刻胶应用领域广泛，包括生物医学、光电子、微电子以及半导体等。在半导体领域，正性光刻胶可用于生产高精度线路板、电路板等产品。近年来，受益于国家对半导体行业发展高度重视，我国正性光刻胶市场需求不断增长。但目前，我国正性光刻胶产量及质量与海外发达国家相比仍存在一定差距，本土企业亟需加大研发投入力度，以推动我国正性光刻胶市场国产化进程加快。
晶瑞电材、容大感光、南大光电、科华微电子等为我国正性光刻胶主要生产商。晶瑞电材为我国正性光刻胶龙头企业，其子公司苏州瑞红专注于环化橡胶型负性光刻胶、G线紫外正性光刻胶、厚膜光刻胶等产品的研发、生产及销售，光刻胶技术水平位居我国领先地位。
新思界
行业分析人士表示，正性光刻胶作为光刻胶细分产品，性能优异，在众多领域应用广泛，未来伴随下游需求逐渐释放，其行业发展速度将进一步加快。我国正性光刻胶行业起步较晚，技术水平及产品质量与海外发达国家相比存在一定差距，未来伴随本土企业自主研发实力提升，我国国产正性光刻胶市场占比将进一步提高。
