厚膜光刻胶又称厚层光刻胶，属于高性能光刻胶，指在光刻工艺中，经涂胶后膜厚较高的光刻胶。厚膜光刻胶具有耐热性强、解析度高、精度高、分辨率高、应力缓冲性良好等优势，在晶圆封装、液晶显示、3D NAND存储器芯片、MEMS微机电芯片等领域应用广泛。
厚膜光刻胶行业发展前景较好，但生产难度较大。膜厚均匀性差、易开裂、形状不佳、耐热性差、膜剥离性不佳等为厚膜光刻胶生产过程中易出现的问题。未来伴随本土企业不断加大研发投入力度，我国厚膜光刻胶技术成熟度有望提升。
根据新思界产业研究中心发布的《
2023-2028年中国厚膜光刻胶行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，厚膜光刻胶应用领域广泛。在晶圆封装领域，厚膜光刻胶可用于厚膜光刻工艺中，能有效提升晶圆封装密度水平；在液晶显示领域，KrF光源厚膜光刻胶可用于生产LCD液晶显示器。受益于下游行业发展速度加快，全球厚膜光刻胶市场规模不断扩大，2022年已达到1.5亿美元。
厚膜光刻胶行业技术壁垒较高，全球市场主要集中于欧美及日本等国。日本eChem Solutions Japan株式会社、日本住友化学工业公司（Sumitomo Chemical）、日本信越化学工业株式会社（Shin-Etsu）、德国Micro Resist公司、德国Allresist GmbH公司、德国Suss公司等为全球厚膜光刻胶主要生产企业，其中日本企业占据全球市场近六成份额。在行业发展初期，我国厚膜光刻胶进口依赖度较高，日本为我国主要进口国。
近年来，随着本土企业技术创新水平不断突破，我国厚膜光刻胶市场国产化进程有所加快。我国厚膜光刻胶主要生产企业包括上海新阳半导体材料股份有限公司、彤程新材料集团股份有限公司、上海普利特复合材料股份有限公司、深圳容大感光科技股份有限公司等。上海新阳为我国厚膜光刻胶龙头企业，其专注于干法ArF光刻胶、KrF光刻胶的研发、生产及销售，具备KrF（248nm）厚膜光刻胶自主研发实力，目前公司正在积极推进存储128层3D闪存用KrF厚膜光刻胶的研究及应用。
新思界
行业分析人士表示，厚膜光刻胶具有耐热性强、解析度高、精度高等优势，在众多领域应用广泛，行业发展前景较好。受技术壁垒高等因素限制，我国高质量厚膜光刻胶产能较低，需求高度依赖进口。预计未来一段时间，随着本土企业持续发力，我国厚膜光刻胶市场国产化进程将有所加快。
