光刻胶显影液又称光刻胶显影剂，指用于溶解由曝光造成光刻胶可溶解区域的一种化学溶剂。光刻胶显影液的温度及浓度对于光刻胶的最终图形边缘粗糙度以及灵敏度起到决定作用，按照所作用的光刻胶不同，其可分为正性光刻胶显影液和负性光刻胶显影液两类。
四甲基氢氧化铵溶液（TMAH）为光刻胶显影液主要成分，其具有强碱性、易潮解、对有机硅产品无污染等特点，作为电子化学品，可用于生产CMP清洗液、正性光刻胶显影液等产品。近年来，受益于国家政策支持以及本土企业自主研发实力提升，我国四甲基氢氧化铵生产工艺逐渐往绿色化方向发展，其产能及产量也得到进一步提升，这为光刻胶显影液行业发展提供有利条件。
根据新思界产业研究中心发布的《
2023-2028年中国光刻胶显影液行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，光刻胶显影液主要应用于显示面板及半导体等领域。在显示面板领域，光刻胶显影液可用于制造柔性OLED显示屏幕、LCD液晶显示器等；在半导体领域，光刻胶显影液可应用于光刻工艺中，能对半导体未曝光部分进行去除。受益于下游行业发展速度加快，光刻胶显影液市场需求日益旺盛。
全球光刻胶显影液主要生产商包括德国巴斯夫、美国亚仕兰、日本三菱化学等。我国光刻胶显影液行业集中度较高，龙头企业占据市场主导地位。杭州格林达电子材料股份有限公司、西陇科学股份有限公司、江苏奥首材料科技有限公司、苏州瑞红电子化学品有限公司等为我国光刻胶显影液市场主要参与者。
与海外发达国家相比，我国光刻胶显影液行业起步较晚，产品质量及性能相对较差。近年来，伴随本土企业不断加大研发投入力度，我国光刻胶显影液行业逐渐往高性能、高品质方向发展。格林达为我国光刻胶显影液龙头企业，占据市场近五成份额，其专注于超净高纯湿电子化学品的研发、生产及销售，TMAH显影液（正性光刻胶显影液）年产能达到9万吨，产品已广泛应用于超精密集成电路中。
新思界
行业分析人士表示，我国光刻胶显影液行业已进入快速发展阶段，应用前景较好。但目前，我国光刻胶显影液技术水平及产品质量与海外发达国家相比仍存在差距。未来伴随市场需求增长以及本土企业自主研发实力提升，我国高性能光刻胶显影液市场占比将有所提高。
