光刻气又称光刻用电子气体、镭射气体，指用于产生光刻机光源的气体。光刻气类型通常根据光刻机的光源波长进行划分，在半导体制造领域拥有广阔应用前景。受益于市场需求不断增长，我国光刻气行业发展态势持续向好。
近年来，国家对电子特气行业发展高度重视，出台众多政策予以支持。2021年12月国家工信部发布《重点新材料首批次应用示范指导目录（2021年版）》，文件明确将超高纯氩气等特种气体纳入电子化工新材料目录。在此背景下，光刻气作为电子特气代表产品，其行业景气度进一步提升。
光刻气多为混合气体，其种类丰富，常见类型包括氩/氙/氖混合气、氪/氖混合气、氩/氖混合气以及氩/氟/氖混合气等。氖气为光刻气主要成分，占据其生产成本近九成。我国为全球氖气主产国之一，2021年我国氖气产量达到近50万吨，占据全球总产量近五成。未来伴随俄乌冲突持续延宕以及氖气提纯技术不断突破，我国氖气产量还将进一步增长，这将为光刻气行业发展奠定良好基础。
根据新思界产业研究中心发布的《
2023-2028年中国光刻气行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，光刻气可用于产生光刻机光源，为光刻机主要组成部分。光刻机行业技术壁垒极高，为晶圆制造核心设备。受益于国家政策支持以及本土企业自主研发实力提升，我国大尺寸晶圆市场占比进一步提高。预计到2026年，我国12英寸晶圆产能将达到240万片。随着下游需求持续增长，我国光刻气行业有望迎来发展机遇。
在行业发展初期，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，我国光刻气需求完全依赖进口，美国普莱克斯公司、德国林德集团、法国液化空气集团为我国主要供应商。近年来，伴随本土企业持续发力，我国光刻气市场国产化进程有所加快。凯美特气、华特气体等为我国光刻气主要生产商，其中华特气体自主研发的光刻气已获得日本GIGAPHOTON公司及荷兰ASML公司认证。
新思界
行业分析人士表示，随着技术水平不断提升，我国大尺寸晶圆产能不断扩张，带动光刻气市场需求日益旺盛。受益于本土企业持续发力，我国光刻气市场国产化进程有所加快。未来伴随国家政策支持以及下游行业快速发展，我国光刻气市场空间将得到进一步扩大。
