抗反射涂层（Anti-Reflection Coating），简称ARC，是指旋涂于光刻胶与Si衬底界面用以吸收光刻反射光的物质。在光刻工艺中，晶圆衬底一般为玻璃或金属，此类衬底有着一定的光线反射效果，会使入射光线与反射光线发生干涉，在光刻胶内产生驻波效应，进而导致光刻胶图案侧壁出现波浪形状况，影响后续工艺正常实行。因此，为避免此类状况发生，需要在光刻胶中增加抗反射涂层，以减少反射影响，提高光刻后图案精细度。
根据涂覆位置不同，抗反射涂层可分为位于Si衬底和光刻胶之间的底部抗反射涂层（BARC）与位于光刻胶顶部的顶部抗反射涂层（TARC）两大类。TARC主要成分包括氟烷基磺酸盐、含氟丙烯酸树脂、负离子活化剂等，其仅能控制光刻胶表面的反射率，对光刻胶/衬底界面处的反射无法抑制；BARC主要成分包括交联树脂、热致酸发生剂、表面活性剂等，具有控制反射界面大、改善反射效果好等优点，是目前应用最广的ARC。
全球范围内，抗反射涂层生产商主要有美国默克集团、美国杜邦、美国霍尼韦尔、美国Brewer Science、韩国锦湖、南韩东进世美肯、日本TOKYO、日本日产化学等国际厂商以及福建泓光半导体材料、上海芯刻微材料技术、苏州润邦半导体材料、深圳首骋新材料、北京科华微电子材料、上海新阳半导体材料、宁波南大光电材料、甘肃华隆芯材料、冠捷显示科技等中国企业。
新思界
产业分析人员表示，抗反射涂层是光刻工艺所需材料之一，其主要与光刻胶配合使用，发挥着吸收或干涉反射光、消除驻波效应、减少反射影响等作用，近年来其市场需求正持续增长，行业展现出良好发展态势。全球抗反射涂层生产企业数量众多，目前市场仍由起步时间较早、技术较为成熟的国际企业占据主导地位，中国企业在市场竞争中尚处于劣势地位，未来还需持续加大技术研发力度。
