三氟化氮（NF3）主要是由氮原子和氟原子组成的有机化合物，常温常压下表现为一种无色无味的气体。经过多年发展，我国三氟化氮生产工艺逐渐成熟，具有多种生产方法，大致可分为熔盐电解法、化学合成法等。其中，化学合成法安全性较高，但生产工序较为复杂，产品杂质含量较多；熔盐电解法生产成本较低，产品收率较高，容易得到高纯度产品，目前已经成为我国生产三氟化氮的主流工艺。
三氟化氮作为一种性质稳定的等离子蚀刻气体，具有优异的蚀刻速率，多用于生产刻蚀剂、氧化剂、氟化剂、清洗剂、助燃剂等，在太阳能电池、半导体、集成电路、显示面板等领域获得广泛应用。其中，刻蚀剂已经成为三氟化氮最大的应用市场，占比达到45.8%；其次为清洗剂，占比为23.7%；排名第三是氟化剂，占比为18.2%。
近几年，我国工业制造水平逐渐提升，半导体、新能源、汽车电子、消费电子、智能终端制造等行业快速发展，对集成电路的需求逐渐增长。在此背景下，我国集成电路行业销售额呈现出稳定增长的态势。根据中国半导体行业协会发布的数据显示，2022年，我国集成电路产业销售额为12006.1亿元，同比增长了14.8%。三氟化氮作为生产集成电路的重要原材料之一，其市场随之受到一定影响。
根据新思界产业研究中心发布的
《2023-2027年全球三氟化氮（NF3）行业深度市场调研及重点区域研究报告》显示，随着我国集成电路制造技术不断进步，其沉积、刻蚀、清洗等步骤逐渐增加，对三氟化氮的需求逐渐增长。除此之外，三氟化氮在工业、化学等领域也获得广泛应用，市场需求进一步提升。在此背景下，我国三氟化氮企业开工率逐渐提升，其产量呈现出稳定增长的态势。2022年，我国三氟化氮产量为为17821.2吨，同比增长了16.3%。
新思界
行业分析人士表示，现阶段，我国三氟化氮企业数量较多，市场集中度相对较低。国外三氟化氮企业主要有三井化学、SKM、关东电化、奥瑟亚、中央硝子、晓星集团等，国内三氟化氮企业分比为南大光电、中船重工、昊华科技、雅克科技、飞源气体等。早期，国外三氟化氮企业凭借其生产技术较为先进、产品质量较高等优势，占据了我国大部分市场。但随着我国三氟化氮企业逐渐崛起，生产技术与国际先进技术之间的差距逐渐缩小，市场竞争力逐渐提升，基本实现了国产替代。
