蚀刻液又称蚀刻剂，指以氟化铵、氢氟酸、硝酸等为原材料，利用氧化还原反应达到蚀刻目的，可用于电子器件表面处理的溶液。蚀刻液需具备使用温度范围宽、使用寿命长、蚀刻速度快、操作便捷等特点，在半导体制造过程中应用广泛。
蚀刻液产业链上游为原材料供应，包括电子级氟化铵、电子级氢氟酸、电子级硫酸、电子级硝酸等具备化学腐蚀性的电子化学品。电子级氢氟酸为蚀刻液核心原材料，占据其较大生产成本。电子级氢氟酸对纯度要求较高，我国企业不断加大其生产工艺的改进，带动行业逐渐往高质量方向发展。原材料质量及产量提升，为我国蚀刻液行业发展提供有利条件。
蚀刻液产业链中游为产品制造，包括二氧化硅蚀刻液、氮化硅蚀刻液、氮化钛蚀刻液、钛蚀刻液、铜蚀刻液、铝蚀刻液、BOE蚀刻液等。氮化硅蚀刻液属于高端蚀刻液，其具备高选择比、易于清洗等特点，在存储器芯片制造领域应用较多。在行业发展初期，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，我国氮化硅蚀刻液高度依赖进口。近年来，在国家政策支持以及本土企业持续发力等积极因素推动下，我国国产氮化硅蚀刻液已实现规模化销售。
根据新思界产业研究中心发布的《
2023-2028年中国蚀刻液（蚀刻剂）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，蚀刻液产业链下游为应用领域，半导体制造领域为其最大需求端。受益于国家对半导体产业发展高度重视，我国蚀刻技术不断进步。蚀刻技术通常可分为湿蚀刻和干蚀刻两种，目前湿蚀刻在半导体制造过程中应用较多。蚀刻液为湿蚀刻技术使用的重要原材料，伴随下游行业发展速度加快，我国蚀刻液市场需求将日益旺盛。
经过多年发展，我国蚀刻液行业景气度不断提升，其市场参与者数量持续增长。我国蚀刻液主要生产商包括上海新阳、艾森股份、安集科技、江化微、兴福电子、格林达等。未来随着研究深入，具备高性能蚀刻液生产能力的企业将占据我国市场更大空间。
新思界
行业分析人士表示，蚀刻液作为半导体制造过程中使用的重要电子化学品，市场需求旺盛，行业发展前景较好。近年来，随着本土企业持续发力，我国蚀刻液种类日益丰富，产品质量不断提升。预计未来一段时间，在技术创新推动下，我国蚀刻液行业发展速度将进一步加快。
