碳化硅具有良好的耐高温、抗腐蚀、抗氧化等特点,是第三代半导体核心材料。CVD碳化硅零部件是通过化学气相沉积工艺生产出的碳化硅零部件,具有良好的热、电和化学性质,在半导体领域的刻蚀设备、热处理设备、Si外延设备等设备中应用广泛。
从国内市场来看,在科技强国建设不断推进的背景下,近年来国家及各地政府出台《“十四五”数字经济发展规划》、《深圳市培育发展半导体与集成电路产业集群行动计划(2022-2025年)》等多项政策鼓励支持半导体关键材料及核心零部件的研发制造,为CVD碳化硅零部件提供良好发展环境。
在政策支持力度不断加大,以及企业研发实力不断增强的背景下,我国半导体产业链体系愈发完善,关键设备制造能力不断提升,叠加化学气相沉积技术不断进步,近年来我国CVD碳化硅零部件市场规模呈稳步上升趋势。2018年我国CVD碳化硅零部件市场规模约为0.8亿美元,2023年市场规模约为2.4亿元,2018-2023年复合年增长率约为25%。
国外半导体行业起步较早,发展时间长,在关键材料及核心工艺领域具有较强竞争优势,其CVD碳化硅零部件研发水平及制造能力处于较高水平,在全球市场中处于垄断地位,代表性企业有德国SGL Carbon、日本东海碳素等。我国CVD碳化硅零部件行业经过一段时间的发展,技术水平不断提升,但在产品种类等方面与国际领先企业相比仍存在一定差距,本土企业具有较大发展空间。
新思界
行业分析人士表示,随着光伏、新能源汽车等新兴产业不断发展,半导体行业仍将维持较高景气度,在相关产品及设备更新换代速度不断加快的背景下,CVD碳化硅零部件在半导体领域的应用将不断深入,行业具有广阔发展前景。志橙半导体是国内少数能够自主开发CVD法碳化硅沉积炉并掌握多项CVD碳化硅涂层核心技术的企业,已成为国内领先的半导体设备用碳化硅零部件企业,在全球市场中也具备一定竞争力。