光刻胶又称光致抗蚀剂，能够对光或其他形式的辐射产生敏感反应，经紫外光、离子束的照射或辐射后溶解度会发生变化，是将光刻工艺所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质。
光刻胶产业链上游为溶剂、光引发剂、光刻胶树脂等原材料的供应；中游为PCB光刻胶、半导体光刻胶、LCD光刻胶等细分产品的生产制作；下游广泛应用于集成电路、显示面板、半导体分立器件、印刷电路板等的生产加工。
在科技强国建设不断推进，高新技术产业规模持续扩张的背景下，近年来国家及各地政府出台《“十四五”数字经济发展规划》、《深圳市培育发展半导体与集成电路产业集群行动计划（2022-2025年）》、《关于推动能源电子产业发展的指导意见》等多项政策鼓励支持半导体、集成电路等产业发展，光刻胶市场需求将持续释放。
据新思界产业研究中心发布的
《2024-2029年光刻胶行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，随着物联网、人工智能等技术不断进步，消费电子、智能汽车等产业不断发展，我国半导体产业链不断完善，关键设备及材料供应能力不断提升，光刻胶作为光刻工艺中的关键材料，市场规模不断增长。2018年我国光刻胶市场规模约为63亿元，2023年市场规模约为110亿元，2018-2023年复合年增长率约为12%。
光刻胶属于技术密集型产业，具有较高进入门槛。美国、日本等国家光刻胶行业起步早，在研发实力、产品质量等方面具有较强竞争优势，在高端市场中处于垄断地位，代表性企业有美国陶氏化学、日本住友化学等。受技术、经验等限制，我国光刻胶主要集中在中低端市场，PCB光刻胶占比超过93%，高端市场对进口产品依赖性强，国产替代空间大。
新思界
行业分析人士表示，随着国际贸易形势愈加复杂，出口管制及经济制裁风险不断增加，市场对国产关键材料的需求将不断增长，光刻胶具有广阔发展空间。在产业转型升级步伐逐步加快，政策支持力度不断加大的背景下，国内企业在光刻胶领域的研发投入不断增加，技术专利申请数量不断增长，高端产品研发应用进程不断加快，行业呈现良好发展态势。现阶段我国光刻胶研发生产企业有江苏南大光电材料股份有限公司、晶瑞电子材料股份有限公司、东阳华芯电子材料有限公司等。
