抗反射涂层又称为抗反射层（ARC），是一种吸收光刻反射光的光学薄膜涂层，通常由高分子树脂、热致产酸剂、染料、溶剂等组成。抗反射涂层为光刻胶配套材料，通常与248nm深紫外（DUV）光刻胶或193nm光刻胶配套使用，用于减少在光刻过程中发生的光反射，消除驻波效应。
抗反射涂层分为顶部抗反射涂层（TARC）、底部抗反射涂层（BARC）、可显影底部抗反射涂层、旋涂含Si抗反射涂层（SiARC）、碳涂层等。顶部抗反射涂层作用是消除从光刻胶顶面反射回光刻胶中的光，底部抗反射涂层作用是消除从基片反射到光刻胶中的光。
根据层数不同，抗反射涂层又分为单层抗反射涂层、多层抗反射涂层。抗反射涂层类型不同，主要成分也有所差异，顶部抗反射涂层主要成分为氟烷基磺酸盐、含氟丙烯酸树脂、负离子活化剂等，底部抗反射涂层主要成分包括热致酸发生剂、表面活性剂、可交联树脂、溶剂等，SiARC主要成分为有机硅氧烷，碳涂层主要成分为高C含量的聚合物。
根据新思界参与研究中心发的《
2024-2029抗反射涂层（ARC）行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，抗反射涂层可提高光刻的精度和产量，与光刻胶配套使用，应用在晶圆、IC封装、光伏、PCB、集成电路、显示面板等领域。我国是电子信息制造大国，根据国家统计局及工业信息部数据显示，2023年我国集成电路产量为3514亿块，同比增长6.9%；2024年1-2月，集成电路产量约704亿块，同比增长16.5%。由此来看，我国抗反射涂层市场需求空间广阔。
全球范围内，抗反射涂层生产商较多，市场竞争将日益加剧。抗反射涂层生产商包括美国杜邦、美国默克、日本TOKYO、日本日产化学、韩国锦湖等国外企业，以及彤程新材料集团、苏州理硕科技、上海芯刻微材料、宁波南大光电材料、福建泓光半导体、北京科华微电子、上海新阳半导体等国内企业。
新思界
行业分析人士表示，抗反射涂层是光刻胶配套材料，具有消除驻波效应、吸收反射光、减少反射影响的作用。抗反射涂层在电子制造领域应用广泛，随着先进光刻技术发展、芯片尺寸缩小，抗反射涂层作用将更加突出，应用将更为广泛。全球抗反射涂层生产商较多，国外企业凭借技术、先发、品牌等优势占据全球市场主要份额，相比之下，我国企业还存在较大发展空间。
