电子束光刻胶又称EB光刻胶，指适用于电子束曝光技术的感光材料。电子束光刻胶需具备对比度高、分辨率高、深宽比能力高、对电子束能量响应速度快、热稳定性好、抗蚀刻性佳等特性，在微电子制造、半导体制造、生物医学、纳米科学研究等领域应用较多。
按照曝光前后溶解度变化不同，电子束光刻胶可分为正性胶和负性胶两种类型。正性胶以SU-8 GM1010电子束光刻胶为代表，具有金属粘附性好、高宽比大、耐化学腐蚀、可单次旋涂超厚膜层等特点，主要用于微细加工环节；负性胶在受到电子束曝光后不易溶解，适用于半导体分立器件制备过程中，HSQ无机负胶、XR-1541-002/004/006等为其代表产品。
根据新思界产业研究中心发布的《
2024-2029年中国电子束光刻胶（EB光刻胶）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，电子束光刻胶在众多领域拥有广阔应用前景。在微电子制造领域，电子束光刻胶可用于处理掩模版刻蚀层。掩膜版为集成电路光刻工艺中使用的重要元件。受益于国家政策支持，我国集成电路出货量不断增长。据国家工信部统计数据显示，2023年我国集成电路产量达到3514亿块，同比增长6.9%。未来随着下游行业快速发展，我国电子束光刻胶应用需求将日益旺盛。
在国际市场上，电子束光刻胶市场参与者包括美国Microchem公司、日本东京应化工业株式会社（TOK）、日本合成橡胶株式会社（JSR）、日本信越化学工业株式会社（Shin-Etsu）等。在本土市场上，随着行业景气度提升，我国布局电子束光刻胶研发及生产赛道的企业数量持续增长，主要包括容大感光、华懋科技、晶瑞电材、彤程新材等。
徐州博康为华懋科技旗下子公司，是我国较早参与光刻胶材料研发及生产的企业之一。徐州博康拥有从单体树脂到高端光刻胶的完整产业链体系，已为我国多家企业及科研机构提供定制化电子束光刻胶，其产品主要包含PHS体系、HSQ体系以及PMMA体系三种类别。据华懋科技企业半年报显示，2023年上半年徐州博康实现营收0.9亿元。
新思界
行业分析人士表示，电子束光刻胶作为光刻胶细分产品，在微电子制造领域拥有广阔应用前景，未来伴随下游行业快速发展，其市场空间将不断扩展。目前，我国已有多家企业布局电子束光刻胶行业研发及生产赛道，带动其市场竞争日益激烈。未来随着技术进步，我国高品质电子束光刻胶市场占比将有所提升。
