离子束光刻胶又称IBL光刻胶，指专用于离子束光刻工艺的光刻胶。离子束光刻胶具有化学稳定性好、分辨率高、耐辐射、热稳定性好等优势，在纳米压印技术、纳米科学研究、微电子制造以及生物医学领域拥有广阔应用前景。
离子束光刻技术（IBL）指利用氩气、氦气、氖气等惰性气体产生的离子束对于硅片表面进行轰击刻蚀的技术，可细分为离子束投影光刻技术以及聚焦离子束光刻直写技术两类。离子束光刻技术具有曝光容限宽、对抗蚀剂材料要求低、能保持加工件精度、绿色环保等优势，目前已在先进微电子制造过程中获得广泛应用。未来随着离子束光刻技术不断进步，离子束光刻胶行业发展态势将持续向好。
离子束光刻胶为光刻胶细分产品。受益于显示面板以及半导体等高新技术产业发展速度加快，我国光刻胶应用需求日益旺盛。2023年我国光刻胶市场规模达到近130亿元，同比增长超过10%。近年来，为鼓励行业发展，我国政府已颁布多项光刻胶相关政策，包括《重点新材料首批次应用示范指导目录（2024年版）》、《“十四五”原材料工业发展规划》、《产业结构调整指导目录（2024年本）》等。未来伴随光刻胶行业景气度提升，我国离子束光刻胶市场空间将有所扩展。
根据新思界产业研究中心发布的《
2024-2029年中国离子束光刻胶（IBL光刻胶）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，离子束光刻胶主要应用于纳米压印技术、纳米科学研究、微电子制造以及生物医学领域。在纳米科学研究领域，离子束光刻胶可用作高级纳米图案化工具；在微电子制造领域，其可用于制造微通道网络、微型传感器等；在生物医学领域，其可用于药物释放系统以及生物传感器的精细加工过程中。
我国离子束光刻胶主要生产商包括安集科技、晶瑞新材、南大光电、容大感光、广信材料等。未来伴随本土企业持续发力，我国离子束光刻胶行业发展速度将有所加快。
新思界
行业分析人士表示，离子束光刻胶适用于离子束光刻工艺中，未来伴随市场需求逐渐释放，其行业发展空间将进一步扩展。受益于国家政策支持以及技术进步，我国光刻胶行业发展速度有所加快，离子束光刻胶作为其细分产品，具有绿色环保、稳定性好等优势，未来市场占比将得到进一步提升。
