半导体级氢氧化钾属于高纯电子级氢氧化钾，生产工艺较为复杂，具有纯度高、化学性质稳定等特点，多用于制造半导体微电子芯片的蚀刻液。此外，半导体级氢氧化钾也用于半导体清洗领域，用来清洗硅片表面的污染物和氧化层，提高半导体产品的质量及稳定性。
根据新思界产业研究中心发布的
《2024-2028年中国半导体级氢氧化钾市场行情监测及未来发展前景研究报告》显示，在全球，包括半导体级氢氧化钾在内的湿电子化学品生产企业主要分布在美国、德国、日韩、中国台湾等地区，代表性企业有KMG Electronic Chemicals、联仕电子化学材料股份有限公司、TOAGOSEI等。
在国内，半导体级氢氧化钾生产企业主要有华融化学股份有限公司、江阴江化微电子材料股份有限公司等。其中，华融化学股份有限公司进入半导体级氢氧化钾行业的时间较早，2022年其已通过半导体客户产线验证。
从下游行业发展状况来看，2023年我国芯片产量3514亿块，同比增长6.9%；芯片进口量为4795亿块，同比减少降10.8%。整体上看，我国芯片产量呈现逆全球化增长态势。伴随着半导体芯片生产规模扩大，半导体领域所需湿电子化学品也随之增加。2022年，国内半导体领域湿电子化学品需求量近80万吨；2023年，我国半导体领域湿电子化学品需求量接近100万吨。
从半导体级氢氧化钾行业发展前景来看，一方面国家明确鼓励半导体行业发展创新，未来伴随着半导体行业进一步发展，国内市场对半导体级氢氧化钾的需求量将持续增长。另一方面，我国半导体领域湿电子化学品国产化率仍较低，尚不足40%，半导体级氢氧化钾行业也需要进口部分产品以满足国内市场需求。且随着晶圆尺寸向大型化发展，晶圆制造领域对氢氧化钾的纯度要求也越高，从而驱动半导体级氢氧化钾行业企业进行技术创新。
新思界
产业分析人士表示，半导体级氢氧化钾是半导体行业重要关键化学原料之一，其产品质量直接影响半导体蚀刻液产品性能品质，受此影响，下游半导体行业客户对半导体级氢氧化钾供应商认证要求严格，且存在一定验证周期较长，一旦通过验证，下游客户为保证产品质量稳定性，通常不会轻易更换供应商。因此，半导体级氢氧化钾行业存在较高的客户壁垒，行业内先发企业具备明细的客户资源优势。
