三甲基铝(TMA),化学式为Al(CH3)3,是一种有机金属化合物。三甲基铝在常温下外观呈无色透明液体,含刺激性气味,可溶于饱和脂肪烃、芳香烃以及脂环烃。三甲基铝具有易燃、易挥发、易氧化等特点,需在惰性气体环境中使用,有机合成、电子电气、医药制造等领域为其主要需求端。
三甲基铝制备方法众多,主要包括格氏试剂法、超声波辐射法、铝还原法、金属钠还原法、烷基交换法等。铝还原法指以甲基汞以及金属铝为原材料,经直接还原反应制得成品,该法具有制备流程简单、生产效率高等优势,但极易造成环境污染;烷基交换法指将烷基铝以及倍半物相反应,进而制得成品,该法成品收率较高,但反应时间较长。目前,我国现有制备方法无法满足三甲基铝批量化生产需求,产品进口依赖度较高。
三甲基铝主要应用于有机合成、电子电气、医药制造等领域。在有机合成领域,三甲基铝作为催化剂,可参与烯烃聚合反应、烷基化反应、氧化还原反应;在电子电气领域,其可用于原子层沉积以及化学气相沉积等半导体制造工艺中;在医药制造领域,其可用于合成抗肿瘤药物以及抗病毒药物。
根据新思界产业研究中心发布的《
2024-2028年三甲基铝(TMA)行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示,甲基铝氧烷(MAO)为三甲基铝终端产品。甲基铝氧烷是一种重要化工原材料,可用于制备茂金属催化剂。近年来,随着我国高端聚烯烃应用范围不断扩展,茂金属催化剂市场需求日益旺盛。2023年我国茂金属催化剂市场规模达到近25亿元,同比增长近8%。未来伴随下游行业快速发展,我国三甲基铝将获得广阔市场前景。
我国已有多家企业布局三甲基铝行业生产赛道,主要包括南大光电、先导微电子、博泰电子、威顿晶磷、佳因光电材料等。目前,我国企业集中于生产电子级三甲基铝,南大光电作为龙头企业,占据市场近五成份额。
新思界
行业分析人士表示,三甲基铝作为有机金属化合物,在众多领域拥有广阔应用前景,未来伴随全球半导体产业向我国大陆转移,其电子级产品市场需求将进一步增长。但目前,受技术壁垒高等因素限制,我国三甲基铝产能较低,需求高度依赖进口。未来伴随本土企业持续发力以及技术进步,我国三甲基铝市场国产化进程有望加快。