高纯氧化硼，是指产品纯度在99.99%（4N）及以上的三氧化二硼。
氧化硼，也称三氧化二硼，化学式为B2O3，外观为白色蜡状固体，易吸湿，可溶于水，可溶于酸碱溶液，结晶难度大，氧化硼晶体外观为无色玻璃状晶体，晶体结构包括六方晶系、单斜晶体。氧化硼可用作分析试剂、助熔剂、掺杂剂、催化剂，可用来制造特殊玻璃例如光学玻璃、耐热玻璃，以及制造玻璃纤维等。
氧化硼制备通常是以硼酸（H3BO3）为原料，通过常压高温脱水、真空升温脱水等方法得到。高纯氧化硼制备可以高纯硼酸三甲酯为原料，加入纯水搅拌进行水解反应后，真空条件下升温保持一定温度脱水，冷却至室温获得；或者以工业硼酸为原料，通过氧化重结晶工艺去除有机杂质，加入甲醇进行酯化反应获得硼酸酯，硼酸酯与高纯水进行水解反应获得高纯硼酸，再经高温脱水获得高纯氧化硼。
根据新思界产业研究中心发布的
《2025-2030年中国高纯氧化硼行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，高纯氧化硼技术含量高，主要用于电子产业中。高纯氧化硼可以用作半导体掺杂剂，用来制造P型半导体，精准调控硅基材料导电性，以提升芯片性能；液封直拉法是制备III-V族半导体化合物的核心工艺，通常采用高纯氧化硼作为液封剂，可用来制造砷化镓（GaAs）、磷化镓（GaP）、砷化铟（InP）等半导体材料。
高纯氧化硼还可用来制备氧化硼靶材，采用物理气相沉积（PVD）或者化学气相沉积（CVD）工艺镀膜或制造薄膜，采用磁控溅射工艺（属于PVD工艺），其沉积速率适中，可获得一定厚度的氧化硼薄膜，氧化硼薄膜与常见的基底材料之间附着力强，除了可以应用在电子产业外，还可应用于光学玻璃镀膜方面。
在集成电路、半导体、功率器件、平板显示、光伏电池等产业持续发展背景下，市场对砷化镓等半导体材料需求持续增长。预计2024-2030年，全球砷化镓市场规模年复合增长率为9.2%。仅从半导体材料制备领域来看，高纯氧化硼市场需求量大。
新思界
行业分析人士表示，近年来，我国高纯氧化硼相关专利不断增多，主要有天津市风船化学试剂科技有限公司“一种粉状5N高纯三氧化二硼的制备方法”，武汉拓材科技有限公司“一种高纯氧化硼的制备装置”，广东先导微电子科技有限公司“一种高纯度氧化硼制备系统及其制备工艺”等。
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