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CMP吸附膜为CMP工艺环节耗材 行业技术壁垒较高

2025-09-03 09:20      责任编辑:杨光    来源:www.newsijie.com    点击:
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        CMP吸附膜,指由硅胶复合材料制成的能在半导体化学机械抛光(CMP)过程中吸附晶圆的膜材。CMP吸附膜需具备机械强度高、耐化学腐蚀、吸附力强、使用寿命长等特点,在半导体制造领域拥有巨大应用潜力。

        CMP吸附膜产业链上游为原材料供应,主要要包括硅烷偶联剂、硅胶复合材料以及聚对二甲苯。硅胶复合材料通常以硅胶为基材,与其他高强度材料复合制成,具备耐腐蚀、耐高温、绿色环保、耐用性佳等优势。近年来,随着本土企业持续发力,我国硅胶复合材料技术不断进步,已有多家企业具备其高性能产品生产实力,这将为CMP吸附膜行业发展提供有利条件。

        CMP吸附膜产业链中游为产品制造,化学气相沉积法(CVD)为其主要制备方法。CMP吸附膜对于吸附力、厚度等参数有极高要求,其制备难度较大。目前,受技术壁垒高、生产成本高等因素限制,我国CMP吸附膜产能较低。

        根据新思界产业研究中心发布的《2025-2029年全球及中国CMP吸附膜行业研究及十五五规划分析报告》显示,CMP吸附膜产业链下游为应用领域,半导体制造领域为其主要需求端。近年来,化学机械抛光(CMP)行业发展速度不断加快,已成为半导体晶圆表面加工关键技术。在此背景下,CMP吸附膜作为CMP工艺环节主要耗材,市场空间不断扩展。2024年全球CMP吸附膜市场规模同比增长超过10%。

        全球CMP吸附膜主要生产企业包括美国应用材料公司(AMAT)、日本荏原制作所(EBARA)等。美国AMAT公司为全球最大CMP吸附膜供应商,市场占比达到近七成。

        在本土方面,我国CMP吸附膜行业尚处于起步阶段,具备其自主研发及生产实力的企业数量极少。上海润平电子材料有限公司为江丰电子孵化企业,专注于半导体晶圆制造用CMP抛光材料的研发、生产及销售,拥有多项CMP吸附膜相关专利。目前,润平电子已实现CMP抛光材料全链条国产化,产品已在12寸存储芯片和逻辑芯片制备过程中获得应用。

        新思界行业分析人士表示,CMP吸附膜作为CMP耗材,应用前景广阔,行业发展速度不断加快。随着市场需求日益旺盛,我国CMP吸附膜行业发展空间不断扩展。与海外发达相比,我国CMP吸附膜行业起步较晚,产能较低。预计未来一段时间,随着技术进步,我国CMP吸附膜市场参与者数量将进一步增长。
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