光刻胶溶剂种类丰富，主要包括边胶清洗剂（EBR）、稀释剂、铜清洗剂、铝清洗剂、PI清洗剂以及ITO清洗剂等。边胶清洗剂（EBR），指能够去除晶圆边缘多余光刻胶的专用化学试剂。边胶清洗剂具备工艺兼容性强、溶解能力强、绿色环保等特点，在晶圆加工场景需求旺盛。
边胶清洗剂主要包括水基型边胶清洗剂以及溶剂型边胶清洗剂两种类型。水基型边胶清洗剂具备毒性低、绿色环保等优势，属于新型边胶清洗剂；溶剂型边胶清洗剂具备清除效果好、适用范围广等优势，为边胶清洗剂代表产品。未来随着细分产品应用需求增长，边胶清洗剂行业景气度有望提升。
根据新思界产业研究中心发布的《
2025年中国边胶清洗剂（EBR）市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，边胶清洗剂主要应用于晶圆加工场景。近年来，随着全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，我国晶圆产能持续扩张。2024年我国大陆晶圆代工产能占据全球总产能近20%。边胶清洗剂能有效去除晶圆封装过程中的多余光刻胶。未来随着下游行业发展速度加快，我国边胶清洗剂市场需求将不断增长。
全球边胶清洗剂市场主要参与者包括日本富士胶片控股株式会社（FUJIFILM）、日本第一工业制药株式会社（Daiichi Pharmaceutical）、日本JSR株式会社、韩国SK集团等。富士胶片具备CMP研磨液以及光刻胶辅助材料批量生产实力，其边胶清洗剂销量位居全球领先。在本土方面，行业发展初期，我国边胶清洗剂高度依赖进口。近年来，随着本土企业持续发力，我国边胶清洗剂市场国产化进程有所加快。
我国边胶清洗剂主要生产企业包括上海珈微新材料科技有限公司、彤程新材料集团股份有限公司、江苏美阳科技有限公司、江阴江化微电子材料股份有限公司等。珈微新材具备G4、G5级别边胶清洗剂自主研发及规模化生产实力，产品已在晶圆制造领域获得广泛应用。江化微为我国湿电子化学品代表企业，其推出的边胶清洗剂已通过多家客户验证。
新思界
行业分析人士表示，边胶清洗剂作为光刻胶溶剂，应用需求旺盛。未来随着我国晶圆产能持续扩张，边胶清洗剂市场空间将进一步扩展。在行业发展初期，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，日韩企业长期占据我国边胶清洗剂市场主导地位。未来随着技术进步，我国国产边胶清洗剂市场占比有望提升。
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