光致产酸剂（PAG），指在光照下能够产生酸性物质的化合物。光致产酸剂为光刻胶核心组成部分，对其分辨率及感光度起到重要作用。
按照结构特点不同，光致产酸剂可分为非离子型光致产酸剂以及离子型光致产酸剂。非离子型光致产酸剂以磺酸酯类化合物为代表，在光解条件下能释放磺酸，主要应用于193nm和248nm光刻胶中；离子型光致产酸剂包括二芳基碘鎓盐以及三芳基硫鎓盐，为光致产酸剂代表产品，市场占比达到近七成。
2024年1月1日，由国家工信部发布的《重点新材料首批次应用示范指导目录（2024年版）》正式实施，文件明确将I线/KrF/ArF光刻胶专用高纯度化学增幅型光致产酸剂纳入先进半导体材料和新型显示材料目录。未来随着国家政策支持，我国光致产酸剂行业发展速度有望加快。
光致产酸剂作为光敏材料，主要应用于EUV、ArF以及KrF光刻胶制备过程中。近年来，随着半导体产业发展速度加快以及技术进步，我国光刻胶行业景气度不断提升。南大光电推出的28nm制程ArF光刻胶已在50nm存储芯片以及14nm逻辑芯片中获得应用。根据新思界产业研究中心发布的《
2025-2030年中国光致产酸剂（PAG）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，受益于应用需求日益旺盛，我国光致产酸剂市场规模不断增长，2024年同比增长超过20%。
全球光致产酸剂行业集中度较高，日本及欧美国家占据市场主导地位。日本东洋化学株式会社（Toyo Chemicals）、日本富士胶片株式会社（FujiFilm）、日本San-Apro公司、日本和光纯药株式会社（WAKO）、德国贺利氏科技集团（Heraeus）等为全球知名光致产酸剂生产商。
在本土方面，近年来，随着本土企业持续发力以及技术进步，我国国产光致产酸剂市场占比有所提升。强力新材、徐州博康、久日新材、威迈芯材、万润股份等为我国光致产酸剂主要生产商。久日新材为我国光引发剂代表企业，正在积极推进EUV、ArF以及KrF光刻胶用光致产酸剂的研发及生产。威迈芯材专注于光刻胶原材料的研发、生产及销售，其光致产酸剂技术水平达到行业领先。
新思界
行业分析人士表示，随着我国半导体产业发展速度加快，光致产酸剂作为半导体光刻胶原材料，市场需求将不断增长。预计未来一段时间，伴随国家政策支持以及技术成熟度提升，我国光致产酸剂行业将逐渐往高性能、高质量方向发展。
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