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氧化硅高阻隔膜应用前景广阔 蒸镀法为其主流制备方法

2025-11-17 17:40      责任编辑:杨光    来源:www.newsijie.com    点击:
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        高阻隔膜,指以聚烯烃与气体阻隔材料为原材料,经多层共挤出工艺制成的功能性薄膜。氧化硅高阻隔膜,指利用氧化硅镀层制成的高阻隔膜。氧化硅高阻隔膜具备透明度高、阻隔性好、机械性能好、耐高温等优势,在国防军工、药品包装、食品包装以及半导体封装等领域拥有广阔应用前景。

        氧化硅高阻隔膜制备方法包括化学气相沉积法以及物理气相沉积法两种。化学气相沉积法可分为原子层沉积法(ALD)以及等离子增强化学气相沉积法(PECVD);物理气相沉积法可细分为蒸镀法以及磁控溅射法等。蒸镀法具备可重复性好、操作流程简单、成品质量好等优势,为氧化硅高阻隔膜主流制备方法。

        氧化硅镀层为氧化硅高阻隔膜重要组成部分,对其耐高温性能以及阻隔性能起到决定性作用。氧化硅是一种无机化合物,具备耐腐蚀、高温稳定性好、化学稳定性佳等特点,在化工合成、电子电气、环境保护以及医疗卫生等领域应用广泛。沉淀法、气相法、溶胶-凝胶法、水热法以及模板法等为氧化硅主要制备方法。随着技术进步,我国氧化硅产量不断增长,这将为氧化硅高阻隔膜行业发展奠定良好基础。

        根据新思界产业研究中心发布的《2025-2030年中国氧化硅高阻隔膜行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示,氧化硅高阻隔膜在众多领域拥有广阔应用前景,主要包括国防军工、药品包装、食品包装以及半导体封装等。在国防军工领域,氧化硅高阻隔膜可用于军用航天器防护以及武器装备防护过程中;在药品包装领域,其能够阻隔氧气以及水汽,可用于抗生素等对湿度敏感药品的包装过程中;在半导体封装领域,其具备工艺兼容性、电绝缘性以及阻隔性,可用于集成电路封装环节。

        我国氧化硅高阻隔膜主要生产企业包括永聚科技、乐凯华光、万顺科技等。乐凯华光采用PECVD法制备氧化硅高阻隔膜,产品已成功通过全球最大包装企业美国安姆科公司认证。

        新思界行业分析人士表示,氧化硅高阻隔膜作为一种高性能膜材,在众多领域应用广泛。未来随着市场需求逐渐释放,我国氧化硅高阻隔膜行业发展空间将进一步扩展。目前,我国企业正在积极推进对于氧化硅高阻隔膜的研究,未来随着技术成熟度提升,其产能将进一步扩张,产量将持续增长。
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