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N-甲基癸烷胺在光刻材料领域发展潜力大 我国生产能力还将提升

2026-01-14 17:27      责任编辑:周圆    来源:www.newsijie.com    点击:
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N-甲基癸烷胺在光刻材料领域发展潜力大 我国生产能力还将提升

  N-甲基癸烷胺,别名N-甲基癸胺、N-甲基-1-癸烷胺,CAS号7516-82-7,分子式C11H25N,分子量171.32,常温下外观为无色至淡黄色透明液体状,呈碱性,有氨味,有腐蚀性,密度0.803g/cm3,熔点4-5℃,沸点224℃,挥发性低,不溶于水,可溶于2-羟基丙酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯等有机溶剂。
 
  N-甲基癸烷胺的分子结构中包括叔胺结构,具有良好反应活性,以及长烷基链,具有疏水特性。N-甲基癸烷胺可以用作有机合成中间体,用来合成表面活性剂、医药、高分子材料,以及用作金属缓蚀剂、柔软剂、抗静电整理剂等,进而应用在冶金、纺织印染、石油开采、医疗等领域。例如在表面活性剂方面,N-甲基癸烷胺可以用来合成季铵盐等阳离子表面活性剂。高纯度的N-甲基癸烷胺为无色透明液体,在光刻材料领域发展潜力大。
 
  根据新思界产业研究中心发布的《2026-2030年全球及中国N-甲基癸烷胺行业研究及十五五规划分析报告》显示,N-甲基癸烷胺可以用作光刻材料的添加剂以及合成中间体。作为添加剂时,N-甲基癸烷胺可以用作酸淬灭剂,其为碱性,可以中和光刻胶曝光过程中产生的过量酸,来提升图形精度,以及可用作表面改性剂,改善光刻胶与硅基底的附着力,避免光刻胶在显影、蚀刻环节剥离;作为合成中间体时,N-甲基癸烷胺可以合成光刻胶用树脂、光致酸产生剂等,应用在KrF、ArF等中高端光刻胶制造中。
 
  光致酸产生剂,也称光致产酸剂,简称PAG,可以在光照条件下分解生成酸,是光刻胶的关键组成部分之一,在光刻工艺中,其分解产生的酸作为催化剂能够引发后续化学反应,从而实现光刻。2025年,全球光致酸产生剂市场规模约为2.91亿美元,预计2025-2030年将继续以20.78%左右的年复合增长率上升,发展至2030年将达到7.48亿美元。我国半导体产业蓬勃发展,光刻胶需求不断上市,光致酸产生剂市场空间大,在此背景下,N-甲基癸烷胺发展前景广阔。
 
  新思界行业分析人士表示,2025年9月,徐州博康信息化学品有限公司(现徐州博康化学科技股份有限公司)年产1903吨光刻材料技改项目审批公示,建设内容为对现有产品结构进行调整,包括去除现有部分产品产能、对现有部分产品工艺优化、新增产品种类,其中新增包括N-甲基癸烷胺在内的8种光刻材料产能。受市场前景吸引,我国N-甲基癸烷胺生产规模还在扩大。
 
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