三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵（THEMAH）在半导体工业中发展潜力大

　　三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵，英文简称THEMAH，一种季铵碱，CAS号33667-48-0，分子式为C7H19NO4，分子量为181.23，具有强碱性，对眼睛、皮肤、呼吸道有腐蚀性、刺激性，可溶于水，可溶于甲醇、乙醇等极性溶剂。

 

　　市场中的三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵通常是以水溶液的形式进行销售，常见产品是三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵45-50%水溶液，为提高稳定性，产品通常会添加稳定剂甲氧基氢醌（MEHQ）。

 

　　三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵的分子结构中包含季铵阳离子、羟基基团，具有良好反应活性，可以参与亲和取代反应、酯化反应、醚化反应等。三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵可以用做有机合成中间体，用来制备环氧树脂固化剂、表面活性剂等；可用作相转移催化剂，用于有机合成过程中，以提高反应速率；可用作抗静电剂，应用在纺织印染工业中；可用作纤维素溶剂、生物分子提取试剂等。

 

　　根据新思界产业研究中心发布的《2026-2030年全球及中国三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵（THEMAH）行业研究及十五五规划分析报告》显示，三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵在半导体工业中发展潜力大，可以用作半导体显影剂以及清洗剂，应用在半导体、液晶面板制造过程中的光刻胶显影、光刻胶剥离等环节。从清洗剂方面来看，三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵可用于CMP（化学机械抛光）后晶圆清洗中，其可与晶圆表面的残留物进行络合，提高其水溶性，进而达到清洗目的。

 

　　上海新阳半导体材料股份有限公司申请的“一种清洗液、其制备方法和应用”专利，原料包括强碱、醇胺、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂等组分，强碱采用三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵可提高生物兼容性，能够用于学机械抛光后的半导体器件清洗中；武汉鼎泽新材料技术有限公司等申请的“一种含THEMAH的季铵碱液、制备方法及其应用”专利，制备得到的THEMAH无需进一步提纯，能够直接用于CMP后晶圆表面残留污染物清洗中。

 

　　新思界行业分析人士表示，2025年12月，肯特催化材料股份有限公司年产2767吨新材料催化剂技改项目拟审批公示，削减四乙基氢氧化铵（由6285t/a缩减至3500t/a）等产品产能，腾出生产线时间，实现250t/a三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵电解工序等与现有四乙基氢氧化铵等产品共线生产。由此来看，三(2-羟乙基)甲基氢氧化铵拥有良好市场前景，我国生产规模还在扩大。

 

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