CVD金刚石薄膜，指采用化学气相沉积法（CVD）制成的金刚石薄膜。CVD金刚石薄膜具备光谱透过范围宽、热稳定性好、化学稳定性佳、耐磨性佳等特点，在半导体器件、光学窗口、机械加工、量子技术、生物医学等领域有所应用。
化学气相沉积法（CVD）为CVD金刚石薄膜制备方法，可细分为热丝CVD法、直流等离子体增强CVD法、微波等离子体CVD法等。热丝CVD法利用高温钨丝裂解含碳气体，再经过沉积反应制得成品，该法具备技术成熟度高、对设备要求低、参数易控制等优势；直流等离子体增强CVD法可用于制备高品质金刚石薄膜；微波等离子体CVD法具备绿色环保、沉积温度低等优势，适合进行连续化生产。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026年中国CVD金刚石薄膜市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，CVD金刚石薄膜用途广泛，主要包括半导体器件、光学窗口、机械加工、量子技术、生物医学等。在半导体器件领域，CVD金刚石薄膜可用于MOSFET、IGBT等半导体功率器件散热模块中；在光学窗口领域，其具备抗热冲击、宽谱透光等优势，可用于制造自支撑光学窗口；在机械加工领域，其可用于制造超硬刀具；在生物医学领域，其可用于制造生物传感器。
全球CVD金刚石薄膜代表企业包括美国Diamond Foundry、美国Element Six等。在本土方面，我国CVD金刚石薄膜主要生产企业包括安泰科技股份有限公司、河南四方达超硬材料股份有限公司、洛阳誉芯金刚石有限公司、河南黄河旋风股份有限公司、柘城惠丰钻石科技股份有限公司等。安泰科技推出的CVD金刚石薄膜作为散热材料，已在固态电池热管理系统以及数据中心服务器散热系统中获得应用。
虽然应用前景广阔，但我国CVD金刚石薄膜行业发展仍面临诸多挑战。一方面，受技术壁垒高等因素限制，我国大尺寸、低缺陷密度CVD金刚石薄膜市场占比较低；另一方面，CVD设备作为CVD金刚石薄膜核心制造设备，投资成本较高，将进一步较低企业利润空间。
新思界
行业分析人士表示，CVD金刚石薄膜性能优异，在众多领域应用广泛。未来随着应用需求日益旺盛，我国CVD金刚石薄膜将迎来广阔市场前景。目前，我国CVD金刚石薄膜行业发展仍面临诸多问题亟待解决。未来随着本土企业持续发力以及技术进步，我国CVD金刚石薄膜产量及质量有望提升。
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