涂胶显影设备包括涂胶机、喷胶机、显影机，是光刻工序中与光刻机配套使用的设备。随着集成电路生产技术不断进步，为提高光刻工艺精度，涂胶显影设备应用的重要性日益凸显，成为集成电路制造的核心设备。涂胶显影设备可以应用于集成电路制造前道晶圆加工领域，以及后道先进封装领域，其中，应用于集成电路制造前道晶圆加工环节的前道涂胶显影设备地位更为重要，市场份额占比更大。
根据新思界产业研究中心发布的
《2019-2023年涂胶显影设备行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，2015-2018年，全球前道涂胶显影设备销售规模年均复合增长率为15.8%，2018年达到23亿美元以上；2015-2018年，全球后道涂胶显影设备销售规模年均复合增长率为44.2%，2018年不足1亿美元。2018年，中国涂胶显影设备市场规模为9亿美元左右，在全球市场中的份额占比为35%。预计未来5年，全球涂胶显影设备需求增速将放缓，到2023年，全球涂胶显影设备市场规模将达到27亿美元左右。
在全球涂胶显影设备市场中，日本东京电子（TEL）处于垄断地位，市场份额占比超过86%，其他实力较强的企业还有SEMES、SCREEN等。在我国涂胶显影设备市场中，TEL凭借强大的研发、技术与品牌优势，处于绝对垄断地位，市场份额占比达到91%左右。我国本土涂胶显影设备生产企业仅有沈阳芯源一家，在国内市场中的份额占比为4%左右，其余5%的市场份额由SCREEN所占据。在我国以及全球市场中，TEL竞争优势极为明显。
中国电子信息技术发展迅速，全球半导体产业逐步向中国大陆地区转移，2017-2020年间，全球投产的晶圆工厂中，中国大陆地区数量占比达到40%以上。我国晶圆行业进入蓬勃发展阶段，为涂胶显影设备行业发展带来新机遇。我国政策也在大力推动半导体产业发展，国家在半导体产业中的投资不断增加，也为我国涂胶显影设备行业发展提供了有利保障。由于国内涂胶显影设备生产企业仅沈阳芯源一家，在未来的进口替代过程中，企业将优先受益。
新思界
行业分析人士表示，整体来看，得益于我国半导体产业蓬勃发展、国家对半导体产业支持力度不断加大，我国涂胶显影设备行业发展前景广阔。我国涂胶显影设备企业不断加大研发投入力度，已经掌握了相关核心技术，在国内市场中拥有一定知名度，开始抢占市场份额，但与TEL等国际巨头相比仍存在一定差距。相较于国外企业，本土企业对国内用户需求更为了解，产品性价比更高，随着技术不断进步，将逐步获得市场认可，长期来看，国内企业有望实现进口替代。
