半导体清洗设备是在半导体生产过程中将各种污染杂质控制在工艺要求范围内，进而提高芯片良率和性能的设备，是半导体芯片良率的重要保证，半导体清洗设备占据半导体设备价值量的5.3%左右。
按照清洗方式来划分，半导体清洗设备主要可分为单片清洗机和槽式清洗机，槽式清洗机用于批量处理晶圆，当前单片清洗设备是市场主流产品，2019年单片清洗设备占据市场总需求的78%左右。按照清洗原理来划分，半导体清洗设备可被分为干法清洗设备以及湿法清洗设备，在实际应用中，当前湿法清洗设备市场占比较高，达到92%左右。
根据新思界产业研究中心发布的
《2020-2024年中国半导体清洗设备行业市场行情监测及未来发展前景研究报告》显示，目前我国已成为全球最大的的电子产品生产以及消费市场，半导体产需保持在较高水平，2019年我国大陆地区半导体销售额已占据全球的30%以上。随着我国半导体行业的快速发展，半导体清洗设备市场需求持续攀升，市场规模不断扩大，到2019年我国半导体清洗设备市场规模达到33亿元，预计到2020年底能够达到35亿元以上。
从生产方面来看，当前全球半导体清洗设备生产主要集中在东京SCREEN株式会社、东京电子、迪恩士、拉姆研究、盛美、Lam Research等企业把控，其中迪恩士市场份额在52%左右，东京电子占比为26%，位列第二，SCREEN市场占比15%，牌在第三，2019年CR3约为93%，市场集中度较高。
我国半导体清洗设备生产企业主要有盛美半导体、北方华创、至纯科技等，市场规模在全球中占比不超过8%。从清洗方式分析，目前盛美半导体产品主要为单片式清洗设备，北方华创和至纯科技当前以槽式清洗为主，其中至纯科技自主研发生产的单片式清洗设备尚处于客户验证阶段。由上可以看出，我国半导体清洗设备相对落后，不符合市场主流需求，竞争力较弱，市场占比相对较小。
新思界
产业分析人士表示，我国是半导体生产消费大国，半导体年产量较高，为保证半导体芯片良率，近几年国内半导体清洗设备市场需求持续攀升。在生产方面，我国企业生产的半导体清洗设备多为以槽式清洗，不符合市场主流需求，市场占比较小，国内外市场当前被日企占据，未来我国半导体清洗设备国产替代空间较大。
