光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。新思界产业
研究中心出具的《
2021年全球及中国光刻设备产业深度研究报告》显示，全球光刻设备的市场规模将从2021年的市场价值为122亿美元，预计到2025年将达到186亿美元；复合年增长率为8.8％。推动全球光刻设备市场规模增长的关键因素包括先进半导体制造技术的出现以及全球各国政府对这些进步技术的支持。市场上的主要参与者集中在研发活动上，这些企业在不断推出新技术，以改善用于制造半导体器件的光刻工艺。
EUV有望在预测期内推动光刻市场的增长
采用EUV光刻设备减少了对每个新工艺进行重新设计的要求，从而使7nm和5nm工艺（及其后续工艺）可以共享设计规则。预计这种方法将大大减少新几何形状的过渡时间，从而为市场上的客户带来新的选择和机会。
270nm–170nm在2020年占据最大的光刻波长市场份额
270nm–170nm波长主要用于不同类型的DUV设备，即KrF、ArF和ArFi。在DUV设备中。2021-2025年，ArFi细分市场将占据最大份额。下游市场当中对高性能、低成本半导体器件的需求不断增加，导致行业中的硅晶片中的特征几何形状在不断缩小。
到2025年，激光产生的等离子体将引领光刻设备市场
在行业中新推出的EUV光刻设备中，应用企业将首选激光产生的等离子体，激光产生的等离子体能提供高达1nm的高度改进的波长。这些等离子体充当冷紫外线源，并提供带宽为10nm的单色光；与其他光源相比，EUV光刻设备中使用的LED成本低，所需功率少且使用寿命更长。
铸造厂将在2021年占据光刻设备市场最大的市场份额
对5G等无线技术的不断增长的投资为智能手机OEM商提供了开发低延迟增强现实（AR），虚拟现实（VR）和实时视频流应用程序的潜力的新机会，推动了高性能和多功能IC的发展。随着IC中晶体管密度的增加，用于制造这些高密度IC的光刻设备的需求也在增长。
亚太地区将在2020年占据光刻设备市场的最大市场份额
预计从2020年到2025年，亚太地区的光刻设备市场将以最高的复合年增长率增长。在亚太地区中，中国、中国台湾、日本和韩国等国家拥有大量的半导体代工厂。预计在2021年，中国、中国台湾和韩国将成为半导体支出的领先国家与地区。中国对代工厂和存储器发展的投资不断增长，预计将使中国成为2025年全球领先的光刻设备市场。
全球的光刻设备市场的集中度非常高，前三大市场分别是ASML（荷兰）、佳能（日本）和Nikon（日本），这三家企业约占98％的市场份额。预计ASML（荷兰）在未来几年内，在EUV光刻设备市场中将继续处于垄断地位。未来，下游市场中引入4nm/3nm之类的先进工艺，也将推动对ASML（荷兰）EUV光刻设备的的市场份额增长。
