薄膜沉积设备是薄膜沉积工艺过程中的专用设备，其具有价值量高、需求占比大、研制难度大等特点。国内薄膜沉积设备生产企业主要包括北方华创、沈阳拓荆、捷佳伟创、无锡微导等企业，其中北方华创、沈阳拓荆两家企业技术较为先进，目前正在研发7/5nm制程技术。
薄膜沉积是半导体加工、制造中重要的一项技术，按照原理不同，薄膜沉积主要分为物理式真空镀膜（PVD）、化学式真空镀膜（CVD）、原子层沉积（ALD）等三种，其中原子层沉积为目前最为先进的薄膜沉积技术。
近年来，随着半导体产业的发展，半导体设备市场需求不断释放，发展到2020年，全球半导体设备市场规模达到680亿美元左右。半导体设备产业属于技术密集型、资本密集型和人才密集型产业，受技术、资金以及研发水平等因素限制，目前半导体设备市场呈现出寡头垄断格局，其中日美企业占据市场主要份额。薄膜沉积设备作为半导体核心设备之一，全球市场也由日美企业占据主导。
根据新思界产业研究中心发布的《
2021-2025年中国薄膜沉积设备行业市场行情监测及未来发展前景研究报告》显示，现阶段，全球薄膜沉积设备市场规模在150亿美元左右。近年来，在科技技术进步、政府扶持力度加大的驱动下，我国薄膜沉积设备行业取得较大成就，但由于国内企业在技术方面仍旧落后于国际企业，目前我国薄膜沉积设备国产化率极低，在3%左右。
在全球薄膜沉积设备市场上，日本、美国企业合计市场占比在75%左右，其中CVD市场主要供应商为美国应用材料、东京电子、泛林半导体等；PVD市场供应商包括应用材料、Evatec、日本爱发科等；ALD市场供应商包括东京电子、半导体材料等。目前日美企业的薄膜沉积设备已到达5nm制程水平，处于全球领先地位。
近年来，随着全球产业向东转移，我国集成电路、液晶显示、光伏、机床等产业发展迅速，进而带动薄膜沉积设备需求持续攀升，未来我国或将成为全球薄膜沉积设备市场中增速最快的国家之一，薄膜沉积设备国产替代空间广阔。
新思界
行业分析人士表示，受益于半导体、液晶显示等产业的快速发展，薄膜沉积设备市场需求不断释放，但受技术限制，目前我国薄膜沉积设备国产率极低，市场需求主要依赖进口，不利于行业长远可持续发展。在未来市场发展中，我国薄膜沉积设备仍需不断提升研发创新能力，早日实现薄膜沉积设备国产替代。
