光刻机，又名掩模对准曝光机，是指采用类似照片冲印技术，把掩膜版上精细图形通过光线曝光印制到硅片上的设备。光刻设备是大规模生产集成电路的核心设备，在掩模版制造、芯片制造与封装环节均有应用。根据工作原理不同，光刻机可分为直写光刻机与掩模光刻机。其中直写光刻机是指采用基于空间光调制器的数字掩模代替传统光刻的物理掩膜，无需物理掩膜就可以直接描绘光刻胶图形的设备。
直写光刻技术无需掩模版，具有制程短、成本低、寿命长、功耗低、功率高、分辨率高等特点，在板级封装、高端PCB制造以及OLED、MiniLED、MicroLED、曲面显示面板制造等领域应用较为广泛。根据新思界产业研究中心发布的
《2022-2027年直写光刻设备行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，近年来，在全球半导体产业向中国大陆转移趋势不断攀升以及国内政策大力支持半导体产业发展背景下，我国半导体设备行业快速发展、国产化与高端化水平不断提升，直写光刻设备作为半导体设备的重要组成部分，其市场需求不断增加。
直写光刻设备属于技术密集型行业，技术壁垒较高，我国该行业起步时间较晚，目前国内市场仍由国际领先企业占据主要市场份额，主要企业为ASML阿斯麦、佳能Canon、尼康Nikon等。但近年来，在国内半导体设备国产替代进程不断加快以及PCB、泛半导体领域快速发展背景下，本土光刻设备龙头企业逐渐崛起，在直写光刻设备领域实现了关键技术突破、开启了国产替代进程。
当前，本土企业芯碁微装已实现晶圆级封装直写光刻设备的产业化，且已突破应用于IC封装载板以及高端HDI板领域直写光刻设备的关键技术，2022年9月芯碁微装拟定增募资8.25亿元用于直写光刻设备产业应用深化拓展项目。除此之外，国内布局直写光刻机领域企业还有新诺科技、苏大维格等，未来随着本土企业研发进程不断加快，国产直写光刻设备品牌将具备与国际领先品牌抗衡能力，国产化进程将不断加快。
新思界
产业分析人员表示，近年来，在集成电路朝多层板、HDI板、IC载板等方向不断发展背景下，中高端PCB产品需求朝更精细线宽、更高分辨率与曝光精度等方面不断升级，直写光刻设备正凭借其特有优势成为集成电路生产企业首要选择，市场需求不断增加，行业发展前景较好。未来在本土企业不断提升技术水平与加大研发能力背景下，国内直写光刻设备行业发展潜力巨大。
