按照曝光方式不同，光刻机可分为投影式光刻机、接触式光刻机以及接近式光刻机三种。接近式光刻机为接触式光刻机的衍生产品，指带有使晶圆近距离接触或软接触掩模版的机械装置。接近式光刻机具有生产效率高、分辨率高、精度高等优势，在生物医学微器件、微纳米级半导体器件等产品生产过程中应用较多。根据操作方式不同，接近式光刻机可分为半自动、手动和全自动三种。
接近式光刻机通常由减振器、测量台、遮光器、掩膜台、掩模版、光束矫正器、能量控制器、物镜、硅片等组件构成。掩模版为接近式光刻机重要组成部分，能够承载设计图形，在光线曝光作用下，可将图形印制到硅片上。目前我国掩模版进口依赖度较高，导致市场价格高昂，这为接近式光刻机行业发展带来一定挑战。
根据新思界产业研究中心发布的《
2023-2028年接近式光刻机行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，与接触式光刻机相比，接近式光刻机具有使用寿命长、良品率高等优势，在生物医学微器件、微纳米级半导体器件等领域拥有广阔应用前景。近年来，在国家政策支持等积极因素推动下，我国半导体行业发展速度加快。随着纳米技术不断突破，微纳米级半导体在传感器、生物医学、新能源等领域获得广泛应用。在下游需求拉动下，接近式光刻机市场规模不断扩大。
全球接近式光刻机龙头企业主要集中于欧美及日本等国，包括日本东京电子器件株式会社、日本尼康株式会社、德国通快集团、荷兰ASML公司、美国GCA公司等。美国GCA公司为全球最早研发出接近式光刻机的企业。
我国接近式光刻机行业起步较晚，加之海外龙头企业实行技术封锁，导致行业发展受阻。我国接近式光刻机主要生产商为大族激光科技产业集团股份有限公司。目前，大族激光生产的接近式光刻机已投入市场。伴随我国参与研发企业数量增长，接近式光刻机国产化进程将不断加快。
新思界
行业分析人士表示，接近式光刻机具有生产效率高、分辨率高、精度高等优势，在半导体领域拥有广阔应用前景。我国光刻机行业起步较晚，接近式光刻机市场被海外龙头企业占据，本土企业缺乏竞争优势。未来随着本土企业自主研发实力不断提升，我国接近式光刻机行业发展速度将进一步加快。
