单片清洗机是指一种通过旋转喷淋、超声波、气泡等方式逐片清洗晶圆的设备，一般由清洗槽、喷淋系统、超声波系统、气泡系统、加热系统、过滤系统等部分构成。单片清洗机属于半导体湿法清洗设备的一种，目前已在半导体领域的硅片制造、晶圆制造及芯片封装等场景实现广泛应用，市场发展空间广阔。
与传统清洗设备相比，单片清洗机有着能耗低、无污染、占地面积小、单片处理时间短、微粒去除能力强、碎片率低、可靠性高等优点。与同类型产品槽式清洗机相比，单片清洗机有着更高的工艺控制，可有效提升产品良率；硫酸使用量更小以及清洗能力更强，可有效降低清洗成本；对杂质更敏感，在大尺寸晶圆与先进半导体制程中应用优势更高。
根据新思界产业研究中心发布的
《2023-2028年单片清洗机行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，近年来，随着优势不断凸显，单片清洗机已成为半导体湿法清洗设备市场主流产品。近年来，随着半导体产业快速发展，单片清洗机市场规模持续扩大。2022年全球半导体市场规模已超5500.0亿美元，同比增长超8%。在此背景下，2022年全球单片清洗机市场规模约为28.6亿美元，占比全球半导体湿法清洗设备市场份额已超75%。
除了应用于半导体领域之外，单片清洗机还可用于玻璃、陶瓷、塑料、机械、汽车、航空航天等领域，用于清洗玻璃制品、陶瓷制品、机械零部件、电子零部件场景，市场发展空间广阔。
全球范围内，布局单片清洗机市场的企业主要有美国拉姆研究Lam Research、韩国细美事SEMES、日本迪恩士Screen、日本东京电子TEL等国际企业以及上海盛美半导体设备、上海至纯洁净系统科技、沈阳芯源微电子、长江存储科技、苏州智程半导体科技、江苏华林科纳半导体设备、江苏芯梦半导体设备、苏州芯矽电子科技等中国企业。
新思界
行业分析人士表示，从全球市场格局来看，单片清洗机市场集中度较高，技术成熟、经验充足、研发实力较强的国际企业在全球市场中占据主导地位，2022年国际企业在全球市场合计市占比已超90%。我国单片清洗机行业起步时间较晚，目前在全球市场竞争中仍处于劣势地位，未来国内企业还需持续提升技术水平与增强竞争实力，加速追赶国际领先企业步伐，行业成长空间巨大。
