目前，国内贵金属薄膜材料以溅射靶材为主，主要有平面靶材、旋转靶材和多弧靶材，其中，平面靶材是主要形式。相较于旋转靶材，平面靶材使用率偏低，约为20%-30%，而旋转靶材利用率可达到80%。
资料来源：新思界产业研究院
由于旋转靶材成本效益水平高，近年来对平面靶材形成很大的替代作用，在市场应用中的占比不断提升。同时，使用旋转靶材的生产线效率普遍高于平面靶材镀膜生产线10%左右，且旋转靶材使用周期是平面靶材的3倍左右，减少了靶材更换次数，更加有利于设备维护，目前国内越来越多的用户通过改造镀膜装置或者新建生产装置加大旋转靶材的使用。时间较早的镀膜厂，由于更换设备代价大，目前仍使用平面靶材，但随着镀膜设备更新换代，平面靶材必然被旋转靶材逐步替代。
据国际光学工程学会统计，2015年全球靶材总产能为22150吨，总市值约32亿美元。国际高端品质靶材主要集中在日本、德国和美国，中国是国际重要的中低端靶材生产基地。
作为重要的半导体、显示屏等镀模材料，2014年受益于全球光伏产业、电子产业的快速发展，靶材产线投资处于较高水平。2014年以后，越来越多的企业开始加大旋转靶材的投资力度，部分全球知名平面靶材企业由于技术侧重点不同，在发展中国家的投资力度下降，整体导致全球靶材产能增长放缓。
近年来，全球旋转靶材投资规模不断扩大，由于旋转靶材利用率明显高于平面靶材，一些企业通过更改镀膜装置或者新建装置，不断加大对旋转靶材的利用。良好的市场前景，吸引了较多的投资者的加入，全球旋转靶材行业产能规模不断扩大。但受下游经济环境趋缓影响，旋转靶材产能扩张速度有所减缓。
数据来源：新思界产业研究院
