真空镀膜是指在真空条件下，将金属或非金属材料蒸发或溅射镀于基体表面形成薄膜的技术。真空镀膜材料，是应用在真空镀膜工艺中，蒸发、溅射、沉积在基体表面形成薄膜的各种材料。
真空镀膜可以提升基体的物理性能、化学性能、使用寿命等，真空镀膜材料、基体材料可选择范围宽，薄膜厚度可控制，膜层均匀度好、致密度好、与基体结合强度高，且镀膜过程中对环境污染小，是一种先进的镀膜工艺。根据新思界产业研究中心发布的
《2024-2028年真空镀膜材料行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，2018-2023年，我国真空镀膜市场规模年复合增长率为10.8%，呈现持续快速增长态势，利好真空镀膜材料行业发展。
真空镀膜材料包括金属材料、合金材料、氧化物材料、氮化物材料、碳化物材料、复合材料等几大类，细分产品例如铝、铬、银、钛铝、铬镍、铝硅铜、二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氮化硅、碳化硼等。其中，银导电导热性好，可用于电子器件导电薄膜制备中，铬镍耐高温耐腐蚀，可用于工作在复杂条件下的工业设备镀膜中，氧化铝导电且耐腐蚀，氧化锆硬度高且耐热，氮化铝导热且绝缘，性质各不相同。
真空镀膜材料可以采用溅射镀膜、蒸发镀膜、离子镀膜、物理气相沉积镀膜（PVD）、化学气相沉积镀膜（CVD）、原子层沉积镀膜（ALD）、脉冲激光沉积镀膜（PLD）等方法镀于基体表面形成膜层，可以采用的基体材料包括塑料、薄膜、纸张、金属、合金等，能够提高基体的反射、防水、导电、绝缘、耐磨、耐高温、耐腐蚀、抗氧化等性能以及表面质量。
新思界
行业分析人士表示，采用不同真空镀膜材料，利用不同镀膜工艺可以得到性能不同的镀膜产品，下游应用领域存在一定差异。总的来看，真空镀膜材料可以广泛应用在电子、光学仪器、医疗器械、新能源、照明、汽车、机械设备、航天、珠宝首饰、包装等众多行业，例如在电子行业中可用作半导体器件、微电子器件、反射镜面、绝缘保护涂层、高温传感器等制备领域，市场发展空间大。
我国最新《产业结构调整指导目录（2024年本）》中，鼓励类项目包括新能源、半导体照明、电子领域用连续性金属卷材、真空镀膜材料、高性能箔材，这将推动我国真空镀膜材料行业规模不断扩大、市场需求不断增长。
