我国极紫外光光罩盒（EUV Pod）行业尚处发展初期 国产化进程有待提速

　　光刻是半导体芯片生产的关键环节，光刻技术的高低对芯片性能优劣有着直接影响作用。当前在半导体制造关键技术不断突破以及芯片微型化趋势不断攀升背景下，极紫外（EUV）光刻技术逐渐被用于半导体大规模生产领域，在5nm及以下工艺制程芯片生产中起着关键作用。

 

　　极紫外（EUV）光刻技术原理为利用电能轰击靶材料产生等离子体，等离子体发EUV辐射经过聚焦系统入射到光掩膜版上，再通过投影系统将光掩膜版上的图形转印到产品基板上，从而完成半导体光刻环节。其中光掩膜版，又称光罩，是指用于半导体曝光制程上的母版。

 

　　应用于极紫外（EUV）光刻技术环节的光罩称为EUV光罩。EUV光罩光刻图案精细度较高，发生掩模污染的风险也比较高，因此需要高度专业化的极紫外光光罩盒（EUV Pod）进行防护。极紫外光光罩盒是指用于储存EUV光罩的防护装置，一般采用双光罩盒配置，主要起到避免光罩遭受外部微尘粒子及化学污染作用。

 

　　根据新思界产业研究中心发布的《2023-2028年极紫外光光罩盒（EUV Pod）行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，当前在全球半导体产业向中国转移趋势不断加深以及国内AI、5G、物联网等新兴高技术产业不断崛起背景下，我国逐渐成为全球半导体主要生产与消费国。而极紫外光光罩盒作为先进制程半导体芯片制造环节的关键装置，当前在国内芯片需求不断升级背景下，其市场渗透率得以持续提升，行业展现出良好发展前景。

 

　　中国台湾家登集团是目前全球极紫外光光罩盒市场主要供应商，市占比接近80%，下游客户群体覆盖了台积电、三星、英特尔、SK海力士等一线大厂。当前家登集团极紫外光光罩盒产品技术已达国际领先水平，其新一代EUV极紫外光光罩传送盒G/GP Type已获ASML认证可用于NXE:3400B。但在2022年12月28日，根据台媒报道，受国际形式影响，目前家登集团已暂停对部分中国大陆公司供货。

 

　　新思界行业分析人士表示，极紫外光光罩盒作为一类具有多个关键元件且高度专业化的设备，其技术含量较高，当前国内行业尚处初步发展阶段，国产化程度较低。因此当前家登集团极紫外光光罩盒产品的断供对国内半导体产业发展有着较大影响，未来国内大陆相关企业还需加快产品研发进程与技术研发力度，国内极紫外光光罩盒市场国产替代空间巨大。

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