铈基CMP抛光液是以二氧化铈作为研磨颗粒制备的CMP抛光液。抛光液具有研磨、腐蚀溶解的作用，主要由研磨颗粒、化学添加剂、pH值调节剂等组成，其中研磨颗粒通过摩擦提供机械作用。
化学机械抛光（CMP）是目前唯一能兼顾表面全局和局部平坦化的抛光技术，CMP抛光液是CMP技术的关键耗材。根据研磨颗粒不同，CMP抛光液分为硅基（氧化硅）、铝基（氧化铝）、铈基（二氧化铈）三大类，其中硅基CMP抛光液为主流产品。相比于其他研磨颗粒，二氧化铈的抛光速度更快、抛光精度和光洁度更高、研磨能力更强。在目前各大企业在研复合抛光液中，铈基材料处于优势地位。
根据新思界产业研究中心发布的
《2024-2029年铈基CMP抛光液行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，CMP抛光液是成本占比最高的CMP抛光材料，随着半导体产业发展，我国CMP抛光液市场规模逐年增长，预计2024年将达到44亿元以上。铈基CMP抛光液为高效抛光液，更适用于先进制程的抛光工艺，在浅槽隔离STI、层间介质ILD、硅通孔TSV工艺中应用广泛。
近年来，随着高精密抛光要求提升，二氧化铈粒度逐渐向亚微米级、纳米级发展，纳米级铈基CMP抛光液已成为市场研发重点。微观结构是影响二氧化铈性质的关键因素，二氧化铈及其复合氧化物可制成纳米线、片状、方块形、球形、花束状等形貌，制备方法包括喷雾热分解法、固相烧结法、液相法、气相法等。
铈基CMP抛光液技术壁垒高、工艺配方复杂，全球市场以日美企业为主导，包括Asahi、默克、日本日立、卡博特Cabot等企业。我国铈基CMP抛光液国产化率较低，但近年来，随着国内企业崛起、相关技术突破，我国铈基CMP抛光液国产替代苗头逐渐显现，相关企业包括聚芯半导体、杭州九朋新材料、杭州万景晶瑞新材料、安集科技等。其中聚芯半导体拥有纳米氧化铈CMP抛光液全流程工艺，目前已完成中试跑通，累计出货量达到吨级。
新思界
行业分析人士表示，研磨颗粒是CMP抛光液的关键材料，国内企业多集中在CMP抛光液成品生产上，多不具备核心研磨颗粒生产能力，在国产替代背景下，研磨颗粒的国产替代已成为CMP抛光液行业发展的关键。铈是地壳中含量最丰富的稀土元素，我国稀土资源丰富，铈基CMP抛光液市场可开发空间广阔。
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