溅射靶材是通过磁控溅射技术、多弧离子镀膜或其他镀膜技术，将一定形状的靶材（如圆片、长方体等）置于真空室内，通过高能离子的撞击，靶材表面的原子或分子获得足够的能量并从表面脱离，最终沉积在基底材料上形成具有特殊功能的薄膜。根据成分的不同，溅射靶材可分为金属靶材（如纯金属铝、钛、铜等）、合金靶材（如钼铌合金、镍铬合金等）以及陶瓷化合物靶材（如ITO等氧化物、氮化硅等）。
溅射靶材的应用领域极为广泛，涵盖了半导体芯片制造、平面显示器生产、太阳能电池制备、信息存储介质、工具改性以及电子器件制造等。在半导体芯片制造中，溅射靶材主要用于沉积导电、绝缘和屏蔽层，对制造高性能的集成电路至关重要。而在平面显示器领域，溅射靶材则用于制备透明导电氧化物（TCO）薄膜，以提高显示器的透光性和导电性。此外，溅射靶材还广泛应用于太阳能电池中的吸光层和导电层制备，以及信息存储介质中的磁记录层制备等。
近年来，随着全球电子信息产业的快速发展，溅射靶材市场需求持续增长。特别是在半导体产业，随着制程技术的不断进步和芯片尺寸的不断缩小，半导体行业内对溅射靶材的纯度和精度要求越来越高，推动了全球溅射靶材市场的快速发展。
在中国市场，虽然溅射靶材行业起步晚，但是随着国家对科技创新和产业升级的高度重视，以及电子信息产业的快速发展，中国溅射靶材市场需求不断增长。国内溅射靶材企业通过积极引进和消化吸收国外先进技术，不断提升自身技术水平和创新能力，逐步打破了国外技术壁垒，实现了部分溅射靶材的进口替代。根据新思界产业研究中心发布的
《2024-2028年中国溅射靶材行业市场行情监测及未来发展前景研究报告》显示，目前，中国市场上溅射靶材国外品牌有东曹、霍尼韦尔、日矿金属、普莱克斯等，国内生产企业主要有研新材料股份有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司、隆华科技集团（洛阳）股份有限公司等。
新思界
行业分析人士表示，未来，得益于智能手机、可穿戴设备、汽车电子以及5G和人工智能等新兴技术的快速发展，这些领域对高性能溅射靶材的需求日益增加，全球及中国溅射靶材市场将保持稳定的增长态势，半导体溅射靶材市场为主要增长点。
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