光刻胶清洗剂，是一种专门用于去除光刻胶及其残留物的化学试剂，由强碱、极性有机溶剂和/或水等组成。常用的光刻胶清洗剂为羟胺类和含氟类清洗剂。
光刻胶又称为光致抗蚀剂，是光刻工艺过程中的抗腐蚀涂层材料。在完成光刻和后续的刻蚀或沉积工艺后，衬底表面会存在残留的光刻胶，而光刻胶残留极大地影响后续工艺的精度和可靠性，最终影响器件性能。光刻胶清洗剂能够有效去除残留的光刻胶，以及其他刻蚀残留物，行业具有可观发展前景。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026年中国光刻胶清洗剂市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，随着研究逐渐深入，我国光刻胶清洗剂生产工艺发明专利数量不断增长，为光刻胶清洗剂产品性能提升和行业技术水平提高提供有力支撑，2020来包括江阴润玛电子材料股份有限公司的“一种柔性面板用光刻胶清洗剂及其生产工艺”、江苏奥首材料科技有限公司的“一种光刻胶清洗剂组合物”、上海新阳半导体材料股份有限公司的“离子注入光刻胶清洗液、其制备方法及应用”等。
光刻胶清洗剂是集成电路、TFT-LCD、OLED、印刷电路板（PCB）等制造过程中的关键材料之一，在半导体、平板显示、精密电子加工等领域广泛应用。随着技术进步、半导体等下游行业快速增长，光刻胶清洗剂应用需求将不断释放，市场发展空间将持续拓展。
全球光刻胶清洗剂生产企业主要集中在欧洲、美国、日本、中国等地区和国家，包括美国杜邦（DuPont）、德国默克（Merck）、日本东京化成工业株式会社（TCI）、日本长濑产业株式会社、中国浙江奥首材料科技有限公司、中国安集微电子科技（上海）股份有限公司、中国江阴江化微电子材料股份有限公司等。
欧美日企业研发起步早、技术水平先进，占据全球光刻胶清洗剂市场主要份额。随着本土企业持续发力，我国光刻胶清洗剂国产替代加快推进中。安集微电子是一家高端半导体材料公司，旗下光刻胶清洗剂、电镀液、刻蚀液等多项产品实现自主研发，成功打破国外技术封锁。浙江奥首材料科技研发的“芯片光刻胶清洗剂”，被评定为“化工新材料2024年度创新产品”。
新思界
行业分析人士表示，随着数字经济快速发展释放大量光刻胶应用需求、下游行业对器件性能及质量要求不断提升，光刻胶清洗剂市场需求将持续旺盛。在国家政策支持、企业研发水平提升等驱动下，我国光刻胶清洗剂行业发展速度将加快。
关键字：
