高纯氧化亚氮，又称高纯一氧化二氮，化学式为N₂O，是一种无色、不燃气体。高纯氧化亚氮具备强氧化性、低杂质含量等特点，在显示面板、半导体制造、食品加工、医药制造、化工合成等众多领域需求旺盛。
高纯氧化亚氮制备方法包括硝酸铵热分解法、尾气回收提纯法等。硝酸铵热分解法以液态硝酸铵为原料，经过热分解、脱水、压缩、纯化等流程制得成品，该法为高纯氧化亚氮传统制备方法；尾气回收提纯法指在己二酸、硝酸等工业装置副产废气中回收氧化亚氮，经过多级纯化工艺制得成品，该法具备绿色环保、运行成本低等优势，未来有望获得广泛应用。
高纯氧化亚氮在众多领域需求旺盛，主要包括显示面板、半导体制造、食品加工、医药制造、化工合成等。在显示面板领域，高纯氧化亚氮可用于显示面板薄膜沉积工艺中；在半导体制造领域，其可用于半导体制造化学气相沉积（CVD）工艺中，该领域为其最大需求端；在医药制造领域，其作为医用吸入麻醉剂，可用于口腔科、外科手术和分娩镇痛等场景。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年高纯氧化亚氮行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，近年来，伴随全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，我国集成电路产量不断增长。据国家工信部统计数据显示，2025年我国集成电路产量达到1272亿块，同比增长24.3%。高纯氧化亚氮作为氮源，可用于二氧化硅（SiO₂）、氮化硅（Si₃N₄）及氮氧化硅（SiON）介质层生长过程中，对于集成电路良品率起到重要作用。未来随着下游行业发展速度加快，我国高纯氧化亚氮市场空间将得到进一步扩展。
我国高纯氧化亚氮主要生产企业包括金宏气体股份有限公司、重庆同辉气体有限公司、广东华特气体股份有限公司、天津绿菱气体股份有限公司等。金宏气体具备纯度达99.9999%以上氧化亚氮自主研发及规模化生产实力，产品已成功进入我国头部泛半导体企业供应链体系。
新思界
行业分析人士表示，高纯氧化亚氮作为半导体化学气相沉积工艺中重要耗材，应用需求旺盛。未来随着我国集成电路产量不断增长，高纯氧化亚氮市场空间将得到进一步扩展。随着技术进步，我国高纯氧化亚氮产量及质量不断提升。目前，我国企业已具备超高纯氧化亚氮量产能力，未来其行业景气度将进一步提高。
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