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高纯氮气可用于半导体光刻工艺中 空气分离技术为其核心制备技术

2026-09-04 09:48      责任编辑:杨光    来源:www.newsijie.com    点击:


        高纯氮气,指纯度达到99.999%(5N级)及以上的氮气产品。高纯氮气外观呈无色气体,无特殊气味,在常温常压下化学性质稳定,半导体制造、光伏、医药制造、显示面板制造、氢能、电池制造等领域为其主要需求端。

        高纯氮气的工业制备主要依赖空气分离技术,目前已形成三种主流技术路线,主要包括变压吸附法(PSA)、深冷空分法以及膜分离法等。变压吸附法指利用碳分子筛对氧气进行选择性吸附,实现氮氧分离,该法可用于制备5N级及以上高纯氮气;深冷空分法指先进行压缩空气预冷,再去除杂质,经低温精馏分离制得成品,该法为高纯氮气传统制备方法。

        高纯氮气应用领域广泛,半导体制造、光伏、医药制造、显示面板制造、氢能、电池制造等为其主要需求端。在半导体制造领域,高纯氮气可用于集成电路光刻工艺中;在光伏领域,其可用于N型光伏电池片制造过程中;在显示面板制造领域,其可用于OLED显示面板制造过程中;在氢能领域,其可用作吹扫与气密性检测介质;在电池制造领域,其可用于锂离子电池制造过程中。

        根据新思界产业研究中心发布的《2026-2030年高纯氮气行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示,半导体制造领域为高纯氮气最大需求端,占比达到近四成。近年来,伴随全球半导体产业逐渐向我国大陆转移,我国集成电路产量持续增长。据国家工信部统计数据显示,2026年1-5月,我国集成电路产量达到2286亿块,同比增长25.4%。晶圆为集成电路制造关键原材料,每生产1万片12英寸晶圆需要消耗近50万立方米高纯氮气。未来伴随应用需求增长,高纯氮气行业发展速度有望加快。

        全球高纯氮气市场主要参与者包括德国林德公司(Linde)、法国液化空气集团(Air Liquide)、美国空气化工(Air Products and Chemicals)等。在本土方面,广钢气体、侨源股份、特盈能源、宏芯气体等为我国高纯氮气代表企业。广钢气体专注于电子大宗气体的生产及销售,其推出的PPB级超高纯氮气已在12英寸晶圆厂获得应用。

        新思界行业分析人士表示,高纯氮气作为现代高端制造业基础材料,行业发展前景较好。未来伴随技术进步,我国高纯氮气产量及质量将不断提升。目前,我国已有多家企业具备高纯氮气批量生产实力,未来其市场空间有望扩展。
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