二碘硅烷简称DIS，分子式：H2I2Si，是一种重要的含硅电子特气前驱体，其分子结构中的硅-碘键具有独特的反应活性与沉积特性，在功能薄膜制备、半导体材料掺杂、有机硅化合物合成等领域具有广阔的应用前景。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026-2030年二碘硅烷（DIS）行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，二碘硅烷可用于原子层沉积ALD、化学气相沉积CVD、等离子体增强原子层沉积PEALD等半导体薄膜沉积工艺中，生长高品质含硅薄膜，如氮化硅薄膜（二碘硅烷能够在300℃的温度下形成高质量的氮化硅薄膜）。
团体标准T/ICMTIA ESG0040-2025《集成电路用前驱体二碘硅烷》适用于集成电路原子层沉积技术制备氮化硅薄膜的二碘硅烷，规定了集成电路用二碘硅烷的技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装等内容。
在制备上，二碘硅烷合成路线较多，现有路线多以卤代硅烷与碘化物为原料，通过取代反应实现合成。反应选择性控制、产物纯化效果是二碘硅烷合成技术核心，目前二碘硅烷制备技术多存在溶剂残留、金属杂质引入、反应效率低、安全风险高等问题。
近年来，随着集成电路先进制程节点不断缩小，市场对半导体薄膜的纯度和均匀性提出了更高的精度要求（原子级），二碘硅烷作为其核心功能性材料，化学纯度、金属杂质含量要求随之提升。
我国二碘硅烷相关专利包括“一种电子级二碘硅烷的精馏方法及精馏装置”、“一种制备二碘硅烷的方法及装置”、“一种高纯二碘硅烷的检测装置和检测方法”、“一种二碘硅烷纯化装置及方法”等。随着合成技术、提纯技术攻关持续深入，我国高纯二碘硅烷供应能力将不断增强。
国内二碘硅烷市场参与者包括福建福豆新材料有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、安徽安德科铭半导体科技股份有限公司、中船派瑞特种气体（上海）有限公司等，其中福豆新材料产品涵盖溴化氢、二碘硅烷、五氯化钨、乙烯等30余种电子特气及10余种前驱体。
新思界
行业分析人士表示，我国二碘硅烷产能处于扩张中。太和气体（荆州）有限公司的高端电子化学品材料项目，其中包括二碘硅烷20吨/年生产线；山东兴泰硅材科技有限责任公司建设电子级硅前驱体系列产品项目（一期），其中包含10吨/年二碘硅烷生产线，一期项目2026年7月开工建设，建设期4个月。
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