刻蚀是利用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料，并在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形的过程。刻蚀机是用于在材料表面进行刻蚀加工的设备，在半导体、模拟芯片、太阳能电池、光电子器件等领域中应用广泛。刻蚀机根据工作原理不同可分为激光刻蚀机、离子束刻蚀机、电化学刻蚀机等。
从下游市场来看，近年来在国家对高新技术产业支持力度不断加大，企业研发及自主创新能力不断提高的背景下，我国模拟芯片行业获得快速发展，市场规模由2017年的2100亿元左右增长至2022年的2900亿元左右，为刻蚀机提供广阔消费市场。
刻蚀机研发周期长、生产工艺复杂、制造难度大，行业具有较高技术壁垒。美国、日本等国家半导体行业起步早，产业链体系较为完善，在刻蚀机领域具有较强技术及经验优势，在全球市场中处于领先地位，代表性企业有东京电子、泛林半导体等。
我国刻蚀机行业经过一段时间的发展，逐渐打破国外技术垄断，生产企业数量不断增加，部分产品性能已经达到国际领先水平，行业呈现良好发展态势。目前国内刻蚀机生产企业主要有中微半导体设备（上海）股份有限公司、北方华创科技集团股份有限公司、北京屹唐半导体科技有限公司、中国电子科技集团有限公司等。
中微半导体设备（上海）股份有限公司为国内刻蚀机行业内领先企业，主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售，所生产的等离子刻蚀机已应用在国际一线客户生产线上，产品实现了从65nm到5nm技术工艺的全面覆盖。
新思界
行业分析人士表示，随着我国科技发展水平不断提升，半导体、集成电路等产业不断发展，刻蚀机市场规模仍将保持增长态势，行业具有良好发展前景。近年来在国家政策支持及下游市场需求的推动下，我国刻蚀机生产技术不断进步，在国际市场中的竞争力不断增强，国内企业需要加大研发力度，凭借性价比优势积极开拓海外市场，提升自身影响力。
