前道涂胶显影设备又称TRACK设备，指在光刻工序中与光刻机配套使用，可完成涂胶、喷胶、烘烤以及显影等操作的设备。 前道涂胶显影设备能满足高等级工艺需求，通常用于晶圆制造环节。
按照所处工艺环节不同，涂胶显影设备可分为前道涂胶显影设备和后道涂胶显影设备两种类型。受益于应用需求增长，我国涂胶显影设备行业发展速度加快。2022年我国涂胶显影设备市场规模达到近10亿元，同比增长近20%。预计未来一段时间，随着涂胶显影设备市场空间不断扩展，我国前道涂胶显影设备行业景气度将有所提升。
根据新思界产业研究中心发布的《
2023年全球及中国前道涂胶显影设备（TRACK设备）产业深度研究报告》显示，晶圆制造领域为前道涂胶显影设备最大需求端，其可用于光刻工序中。光刻工序通常包括气相成底膜、旋转涂胶、软烘、对准、曝光、后烘、显影、坚膜烘焙、显影检查等。近年来，伴随全球半导体产业逐渐向我国大陆转移，我国晶圆产能持续扩张，8英寸晶圆产能已达到全球领先。未来伴随下游需求日益旺盛，我国前道涂胶显影设备行业发展速度将进一步加快。
前道涂胶显影设备行业技术壁垒极高，自动光学缺陷检测技术、超高温度与超高精度烘烤固化技术为其核心技术。全球前道涂胶显影设备市场主要集中于欧美及日韩国家，代表企业包括韩国SEMES公司、日本迪恩士公司（Dainippon Screen）、日本东京电子有限公司（Tokyo Electron）、德国苏斯微技术公司（SUSSMicroTec）等。东京电子为全球前道涂胶显影设备龙头企业，市场占比达到近九成。
在本土市场方面，我国前道涂胶显影设备行业起步较晚，具备其自主研发及生产实力的企业仅有芯源微一家。芯源微专注于半导体专用设备的研发、生产和销售，主营产品包括单片式湿法设备、光刻工序涂胶显影设备等。目前，芯源微前道涂胶显影设备技术水平已达到全球领先，可用于8英寸、12英寸单晶圆制造环节，上海积塔、华力集成、青岛芯恩、中芯绍兴等大型晶圆厂为其主要客户。
新思界
行业分析人士表示，随着晶圆产能持续扩张，我国前道涂胶显影设备应用需求日益旺盛，行业发展速度持续加快。但目前，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，我国前道涂胶显影设备市场国产化率较低，本土仅有芯源微一家企业具备其量产能力。未来伴随应用需求增长以及本土企业持续发力，我国前道涂胶显影设备市场国产化进程将有所加快。
