聚焦离子束系统简称FIB系统，是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的显微加工仪器。
聚焦离子束系统通常由离子发射源（离子束）、离子光柱、工作台、信号采集处理单元、真空系统和控制系统等组成。离子发射源是聚焦离子束系统发射离子的关键部件，其技术指标直接关系到整个系统的技术指标和性能。
离子发射源的开发推动着聚焦离子束系统发展与升级。离子发射源分为双等离子体离子源、液相金属离子源、气态场发射离子源，其中液相金属离子源结构简单，是目前商用聚焦离子束系统主要离子发射源，镓（Ga）为液相金属离子源中主要金属材料。气态场发射离子源（如氦离子源）具有亮度更高、源尺寸更小等特点，市场关注度较高。
在分类上，根据能量不同，聚焦离子束系统分为高能（>100KeV）、中能（10-100100KeV）和低能（<10KeV）三大类；根据结构组成不同，聚焦离子束系统分为单束单光柱型、双束单光柱型、双束双光柱型、多束多光柱型、全真空联机型。近年来，得益于离子发射源的多样化，聚焦离子束系统在功能、性能和结构方面得到不断优化，新型聚焦离子束系统逐渐涌入市场。
根据新思界产业研究中心发布的《
2024-2028年中国聚焦离子束系统（FIB系统）市场行情监测及未来发展前景研究报告》显示，在全球市场上，聚焦离子束系统相关企业有美国Gatan公司、美国FEI公司、美国赛默飞世尔、捷克泰斯肯（TESCAN）、日本JEOL公司、日本日立公司、德国卡尔•蔡司、中微半导体制造、国仪量子等。我国聚焦离子束系统研究起步较晚，在离子发射源、离子光柱等细分领域核心竞争力不足，高端聚焦离子束系统市场仍由国外企业占据主导。
聚焦离子束系统广泛应用于透射电镜制样、纳米材料形貌观测、半导体集成电路修改、无掩模蚀刻、故障分析、生命健康、地球科学等领域。在微纳米尺度下，聚焦离子束系统集注入、刻蚀、沉积、改性、半导体加工等功能于一体，在纳米加工领域具有不可替代的作用。
新思界
行业分析人士表示，近年来，随着纳米技术发展，我国纳米加工规模不断扩大，并在江苏、上海、广东等地区形成了一定的纳米加工集群。聚焦离子束系统作为纳米加工用关键仪器，市场需求空间不断扩大。随着电子器件尺寸减小、密度增加，市场对分析设备的空间分辨率、灵敏度要求将进一步提升，聚焦离子束系统应用将越来越广泛。
