碳化硅陶瓷真空吸盘是新一代高性能真空吸盘之一，可以广泛应用在矿山、冶金、化工、制药、玻璃陶瓷、光伏、光学仪器、电子、半导体等领域，能够满足矿山等行业的抗磨损需求，冶金等行业的高温需求，化工等行业的抗腐蚀需求，以及半导体、电子等行业的精密加工与装配需求。
真空吸盘是一种重要的吸附工具，可以应用在固定、搬运、装配等场景。传统真空吸盘的耐磨损性、耐高温性、耐腐蚀性存在一定局限，金属吸盘还存在不防静电的缺点，在部分领域应用受到限制。
碳化硅陶瓷真空吸盘采用多孔陶瓷，是碳化硅高温烧蚀得到的多孔且孔径均匀的陶瓷材料，经研磨抛光后表面质量高，可以应用在半导体领域，用于硅晶圆、蓝宝石晶圆、砷化镓晶圆等制造领域，使用时给予负压，将晶圆稳固吸附于真空吸盘上，作为加持、承载工具，实现减薄、切割、清洗等操作。
碳化硅陶瓷真空吸盘的孔洞直径细小，不会对晶圆表面造成划伤；碳化硅陶瓷具有电阻率高、绝缘性好的特点，制造真空吸盘可防止静电损坏晶圆；碳化硅陶瓷真空吸盘结构致密、强度大、耐磨损，不易产生破裂、碎片等问题；碳化硅陶瓷不易变形，真空吸盘可重复使用，使用寿命长。
根据新思界产业研究中心发布的
《2024-2029年中国光刻机用碳化硅陶瓷真空吸盘行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，光刻机零部件中包括多种陶瓷部件，例如工件台、方镜、真空吸盘、水冷盘等。碳化硅陶瓷可经过精密加工用来制造这些陶瓷部件，成为理想选择材料之一。但烧结结构致密、大尺寸的碳化硅陶瓷难度较高，并且碳化硅陶瓷硬度大、脆性大，精密加工难度大，因此光刻机用碳化硅陶瓷真空吸盘仅有日本京瓷Kyocera、美国CoorsTek等少数企业可以生产。
我国半导体产业规模庞大，根据工信部公布数据显示，2023年，我国集成电路产量为3514亿块，同比增长6.9%。光刻是半导体芯片最关键的工艺环节，光刻机不可或缺。在国际政治形势多变背景下，为避免被卡脖子，我国光刻机自主研发生产步伐正在加速，光刻机用碳化硅陶瓷真空吸盘开发应用潜力大。
新思界
行业分析人士表示，我国最新版《产业结构调整指导目录（2024年本）》中，将面向新一代光刻机用碳化硅陶瓷水冷真空吸盘（浸没式）制备关键技术研发与应用列为鼓励类项目。总的来看，我国碳化硅陶瓷真空吸盘行业发展前景良好，特别是应用在光刻机领域的高端产品发展前景广阔。目前，我国光刻机用碳化硅陶瓷真空吸盘研发生产商主要有中国建筑材料科学研究总院、宁波伏尔肯科技股份有限公司等。
